GLOBALFOUNDRIES表示摩尔法则依然成立
2012-12-17 来源:技术在线
美国GLOBALFOUNDRIES公司首席执行官Ajit Manocha在“IEDM 2012”第二天的午宴(Luncheon)上发表了题为“Is the Fabless/Foundry Model Dead? We Don't Think So. Long Live Foundry 2.0 !”的演讲。他指出今后代工企业与客户企业的密切合作将越来越重要,并表明了推动极限微细化和450mm晶圆大口径化的意愿。
Manocha首先指出,随着移动产品开始拉动半导体市场,尖端半导体的需求迅速扩大。Manocha公布的调查数据表明,45~20nm工艺SoC的代工市场在2011~2016年将以年均37%的速度扩大。
但可提供20nm工艺以后SoC技术的半导体厂商,Manocha表示“包括我们只有四家”。因此,在微细化技术和产能两方面,这四家企业面临的压力越来越大。为满足客户要求,GLOBALFOUNDRIES今后“还将支持10nm工艺和7nm工艺”(Manocha)。该公司计划2014 年量产14nm工艺(金属布线为20nm工艺),2015年量产10nm工艺,2017年量产7nm工艺。关于450mm晶圆的大口径化,Manocha 也指出“这对坚持摩尔法则至关重要”,并表示将按照业内步伐推动大口径化。
Manocha列举了今后的开发课题,其中有:(1)包括2.5D/3D IC在内的封装技术、(2)朝着450mm推动大口径化、(3)液浸及EUV(extreme ultraviolet)等光刻技术、(4)FinFET及完全耗尽型SOI(FDSOI)等器件技术。并指出要实现这些技术,需要全行业合作。
Manocha在演讲后召开了面向新闻媒体的圆桌会议。其中,Manocha介绍了美国纽约州新工厂“Fab8”的开工情况。已开始代工生产,正提供采用32nm工艺SOI技术的DRAM混载SoC技术。28nm工艺技术方面,也从多家企业获得了在该工厂代工生产的订单。“Fab8今后将成为20nm工艺和14nm工艺的生产基地。该工厂是在这些技术工艺需求即将进一步扩大的形势下,在最佳时机开工的”(Manocha)。(记者:大下 淳一,《日经电子》)
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Manocha首先指出,随着移动产品开始拉动半导体市场,尖端半导体的需求迅速扩大。Manocha公布的调查数据表明,45~20nm工艺SoC的代工市场在2011~2016年将以年均37%的速度扩大。
但可提供20nm工艺以后SoC技术的半导体厂商,Manocha表示“包括我们只有四家”。因此,在微细化技术和产能两方面,这四家企业面临的压力越来越大。为满足客户要求,GLOBALFOUNDRIES今后“还将支持10nm工艺和7nm工艺”(Manocha)。该公司计划2014 年量产14nm工艺(金属布线为20nm工艺),2015年量产10nm工艺,2017年量产7nm工艺。关于450mm晶圆的大口径化,Manocha 也指出“这对坚持摩尔法则至关重要”,并表示将按照业内步伐推动大口径化。
Manocha列举了今后的开发课题,其中有:(1)包括2.5D/3D IC在内的封装技术、(2)朝着450mm推动大口径化、(3)液浸及EUV(extreme ultraviolet)等光刻技术、(4)FinFET及完全耗尽型SOI(FDSOI)等器件技术。并指出要实现这些技术,需要全行业合作。
Manocha在演讲后召开了面向新闻媒体的圆桌会议。其中,Manocha介绍了美国纽约州新工厂“Fab8”的开工情况。已开始代工生产,正提供采用32nm工艺SOI技术的DRAM混载SoC技术。28nm工艺技术方面,也从多家企业获得了在该工厂代工生产的订单。“Fab8今后将成为20nm工艺和14nm工艺的生产基地。该工厂是在这些技术工艺需求即将进一步扩大的形势下,在最佳时机开工的”(Manocha)。(记者:大下 淳一,《日经电子》)
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