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2018年04月13日 | EUV光刻机之战，ASML坐收渔翁之利
2018-04-13 来源：21IC中国电子网
《巴伦》报导，芯片设备供应商艾司摩尔ASML的表现，可能要比大多数人想像的要好，瑞士信贷分析师Farhan Ahmad即认为，艾司摩尔的产品是芯片制造商台积电与竞争对手三星电子( 005930-KR )争夺霸主地位的关键要素，估计可以在鹬蚌相争中，渔翁得利。
《巴伦》报导显示，Ahmad 于1 月份便把艾司摩尔股价评级调高至「优于大盘」，Ahmad 并特别指出，「最近对EUV 工具(极紫外光刻Extreme UV，EUV) 的谣言众多。我们的调查表明，EUV 的前景并不是减弱，而是增强。ASML 有望其2019 年EUV 产量订单全满」。
他指出，台积电「在4月2日向ASML和Lasertec下了大约10亿美元的订单」，认为「很可能在第1季度财报上显示为6至8种工具的订单量」。
Ahmad 写道：
「三星继续在EUV 上砸重本。最近的资料显示，除了7 纳米外，三星可能会在10 纳米级DRAM 的部份制造上采用EUV 进行。
因三星计划用EUV 制造低风险DRAM，DRAM 的产品产出有望早于7 纳米出炉，这也是为了扩大7 纳米生产全面使用EUV 的计划之一」。
三星正行销其设计灵活性、更短的周期时间、及更小的模具，作为7 纳米制程的独特优势。三星也正在建设一个由DRAM 和Logic 共享的38 台EUV 工具的EUV 专用工厂」。
Ahmad 认为台积电「可能需要加快5 纳米的脚步，以确保与三星的竞争力」。5 纳米技术将是ASML 在台积电的EUV 真正发光的时期。Ahmad 继续写道：
「台湾有报导称台积电客户对7 纳米的兴趣不高。这是可以理解的，因为7 纳米不能提供与EUV 单一图案化相关的设计灵活性，而其EUV 制程只被用于裁焊VIA孔(无需改变设计)。
同时，7 纳米本预计为在广泛使用EUV 制程的5 纳米(真正的7 纳米)节点前的试车前奏。
我们一直坚持认为7 纳米的采用可能仅限于少数几层芯片上，并且仅限于一部分容量而已。我们预计台积电将在2019 年初开始生产7 纳米产品，并准备在2020 年量产5 纳米。
为了满足产能需求，台积电需要在2019 年开始安装相关工具机台。我们认为ASML 最近的工具订单是来自于台积电，也表示台积电正在努力加强其5 纳米计划」。
受惠于各家晶圆代工厂，包括台积电、三星、格芯等企业纷纷宣布将在2018 年导入7纳米先进制程的情况下，EUV极紫外光光刻机在其中所扮演的关键角色就越来越重要。目前，ASML占据着高达 80% 的市场，垄断了高端光刻机的市场。过去，在14及16纳米制程阶段，各家代工厂的及紫外光光刻机都是来自 ASML。因此，不但带动了2017年ASML整体营收成长33.2%，未来更被看好后续的发展状况。
ASML Wennink表示，展望本季，ASML预估营收将达22亿欧元(相当于季减14.1%)、毛利率预估将介于47-48%之间。2018年ASML预期销售和盈利能力将持续稳健增长。
史海拾趣
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