ASML 第一季度EUV系统未出货订单累计达21台
2017-04-20
ASML4月19日公布2017第一季财报:营收净额 (net sales) 19.4亿欧元,毛利率 (gross margin) 为47.6%,EUV极紫外光光刻系统的未出货订单则累积到21台,价值高达23亿欧元。ASML预估2017第二季营收净额 (net sales) 将在19~20亿欧元之间,毛利率 (gross margin) 约为43~44%。
ASML总裁暨首席执行官Peter Wennink 指出, 积极的产业环境为2017年提供了一个的强劲开始,我们预估这样健康的市场需求将持续今年一整年。我们看到客户对于DUV的强烈需求。由于有些客户选购效能升级方案来优化他们现有的浸润式机台,因此我们的服务和升级业务在第一季度的表现也非常好。我们预估这样的趋势将延续到第二季。
“EUV极紫外光光刻系统正进入量产阶段,订单持续涌入,目前的未出货订单已累积到21台。” Peter Wennink说。
第一季产品重点摘要
?深紫外光 (DUV)光刻: 持续出货NXT:1980浸润式光刻系统给内存客户及逻辑芯片客户来进行10nm量产和7nm制程开发,目前NXT:1980浸润式系统的累积装机量已提达到60多台。
?全方位光刻优化方案 (Holistic Lithography): 本季ASML和Cadence宣布合作,将ASML的光刻和图样仿真(patterning simulation) 模型整合到Cadence的产品中,这将帮助芯片设计业者在设计时间就能进行可生产性确认,以达到更好的效能并缩短上市时程。
?极紫外光(EUV)光刻: 已在第一季末到第二季初间完成第一台NXE:3400B系统的出货。
展望2017年第二季,ASML预估整体销售净额可达19~20亿欧元,毛利率约落在43~44%,其中包含约2亿欧元的EUV营收。研发投资金额提高到3.15亿欧元,其他收入部份 (包括来自于客户共同投资计划的收入)约为2,400万欧元,而管销费用 (SG&A) 支出则约1亿欧元,年化税率约13~14%。ASML预估在第二季会有另外3台NXE:3400B EUV光刻系统完成出货。
- 三星电子 NRD-K 半导体研发综合体进机,将导入 ASML High NA EUV 光刻设备
- 日本首台ASML EUV光刻机将运抵,用于Rapidus晶圆厂试产
- ASML预测2030年收入可超4570亿元!毛利率56-60%
- ASML在2024 年投资者日会议上就市场机遇提供最新看法
- 消息称 ASML 要对台积电设备涨价,郭明錤反驳称台积电反而会砍价
- 光刻机巨头阿斯麦闪崩 股价暴跌16%:销售疲软 订单暴降50%+
- ASML CEO:中国厂商不可能造出7nm及以下先进光刻机
- 三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机
- ASML、恩智浦等半导体企业寻求荷兰新一届内阁强化芯片投资
- 可量产0.2nm工艺!ASML公布Hyper NA EUV光刻机