半导体制作工艺过程中，光刻工艺是一个非常重要的工序。利用光刻模拟软件具有以下优势：
1） 加快工艺发展速度 最大限度提高半导体制造商对现有曝光机的利用率实现对光刻工艺战略的快速定义并认证，从而缩短进入市场的时间
2） 缩短量产化进程对光刻结果提供可靠的预测能够对光刻过程，结构设计及掩模进行校正
3） 提高生产率和增加收益减少暇疵提高效益缩小IC设计与成品之间的差距[]
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