EDA技术进入新的时代中国IC设计任重道远

fighting 2006-8-7 21:05 楼主

慧聪网 2006年4月7日10时12分信息来源：eda

“一体化EDA工具和统一的数据库加速IC设计速度”、“90nm和65nm及以下制造技术的发展促进EDA技术的革新”、“IP复用将不断增长”以及“SystemVerilog将成为下一代描述语言”等是de Geus在接受《电子工程专辑》采访中强调的部分主要内容。EDA工具已伴随着制造技术的进步进入一个新的发展时代。　　Synopsys公司主席兼CEO Aart de Geus博士最近抵达上海考察中国EDA市场的情况。在能环视上海市貌的金茂凯悦酒店里，我采访了这位曾被美国《Electronic Business》杂志评为2002年度最佳CEO，也是一位吉它手的Synopsys掌门人，请他就EDA行业的技术发展方向发表了看法。在此之后，Synopsys中国区总经理潘建岳也接受了本刊的采访。　　一体化工具和IP是发展方向　　一体化的工具使用户受益于一个统一的用户界面，避免了在不同的工具间进行数据转换等繁琐的操作。目前，Synopsys和Cadence两大EDA工具供应商分别推出了集成众多工具在内的一体化设计工具，同时，也在分别推出各自的标准数据库，以进一步简化设计流程。　　Galaxy平台是Synopsys近期推出的先进IC设计平台，整合了Synopsys公司的许多工具，覆盖了从设计编译、布局编译、物理编译、DFT编译以及硅片制造的全部流程，同时还在内部集成了向第三方开放的Milkyway数据库，将不同设计阶段中的数据、时序、计算以及种种约束条件协调起来。　　伴随着设计复杂度的不断提高，中国用户要求更集成化的工具。“Galaxy平台可以直接面向90nm以及以下的设计，在中国已经有几家用户。利用这种一体化设计工具提供的统一库和统一界面可以加速中国IC工程师的设计速度。”de Geus表示。“中国目前正处于IC设计产品的起步阶段，我注意到上海在短时间里就增加了30至40家IC设计公司，在这种情况下一体化和带有标准数据库的工具的意义就更大。” 　　当谈及Synopsys是否也计划开发新的模拟和混合信号设计工具并将其集成到Galaxy平台中时，“Synopsys已在提供模拟和混合信号的仿真和验证产品，我们目前正着重在模拟电路的实现上，并已有利用EDA工具进行模拟电路设计的能力，你会逐步看到我们的相关产品问世。”de Geus笑着说。　　IP的合理应用是加速产品设计流程的一个有效途径。按照美国EDA联盟(The EDA Consortium)2003年一季度的统计数据表明，IP产品的销售额是全球EDA工业中增加最快的一个领域，较2002年同期增加了36%。“IP复用是IC设计业中绝对的发展趋势，”de Geus认为。他介绍道，Synopsys已成为全球第三大独立IP供应商，仅次于ARM和Rambus两家公司，并重点开发应用面广的PCI、USB等标准IP库。　　制造工艺进步促进EDA工具的革新　　全球半导体工艺向90nm、65nm的发展趋势对EDA工具提出了更多的挑战，而随着IC物理尺寸的不断缩小，内部互接的分析成为主要的瓶颈。　　“在这个阶段，交叉耦合电容、IR压降以及电感的影响都是致命的，”de Geus表示，“这就要求EDA工具在设计规划、实现验证等领域有重大的改进。”随着工艺复杂性的提高，布线在考虑阻抗、感抗和容抗的同时，必须考虑硅工艺的规则，包括过孔和填充等以前未必是主要的因素的影响。