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2018年01月28日 | 5nm:比10nm省电70%,比7nm效能提升40-50%
2018-01-28 来源：集微网
电子网消息，台积电在南科举行5nm晶圆18厂的动工典礼，象征全球半导体业进入更密集封装芯片的划时代突破性制程， 打破摩尔定律（芯片效能每18个月提高一倍）限制魔咒；而5nm将全面导入EUV（极紫外光微影技术）制程，在前期7纳米plus制程导入EUV调好良率打好基础之下，2020年正式量产，16、10、7nm客户可快速导入， 拉大与竞争对手领先差距。
目前台积电7nm领先竞争对手三星、格罗方德与英特尔，而5nm预计在2019年上半年进行风险性试产，将有三期厂房生产5nm，2020年全面量产，将拉大与竞争对手领先差距。 虽然去年底消息传出三星、格罗方德与IBM合作发布5nm技术，但量产时间未详细说明，加上三星在制程跳跃式发展，未来量产后，良率仍是一大问题。
台积电在7nm与7nm plus制程上分别采用浸润式微影与EUV，制程演进是按部就班将良率调好，再将EUV全面导入5nm，7nm可说具承先启后划时代意义，而5nm则是先进制程极致工艺最佳表现， 尤其因应高速运算（HPC）应用逐渐扩大，5nm可提高人工智能、超级计算机或虚拟现实整体效能表现。
业界人士指出，在相同功率下，5nm可比7nm提高40%至50%效能表现，提供芯片高运算能力，而比起10nm晶体管省电70%，让讲究高待机时间移动设备，电力可使用时间更长，除了低功耗、高效能之外，晶粒大小也大幅缩减。
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史海拾趣
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