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2018年02月06日 | 维易科和ALLOS展示200MM硅基氮化镓性能，推动micro-LED的应用
2018-02-06
纽约普莱恩维尤(Plainview)，2017年11月1日– Veeco 公司 (Nasdaq: VECO)今日宣布和ALLOS Semiconductors (ALLOS)达成了一项战略举措，展示了200mm硅基氮化镓晶圆用于蓝/绿光microLED的生产。维易科和ALLOS合作将其专有外延技术转移到Propel® 单晶圆MOCVD系统，从而在现有的硅生产线上实现生产micro-LED。
“使用Propel反应腔，我们就拥有了一项MOCVD 技术，这项技术能够实现高产量的GaN外延，满足在200毫米硅生产线上生产micro-LED器件的所有要求，” ALLOS Semiconductors的首席执行官 Burkhard Slischka这样说。“不到一个月时间我们就已经在Propel上对我们的技术进行了验证，并且获得了无裂纹、无回熔的晶圆，翘曲度低于30微米，晶体质量高，厚度均匀性优异，波长均匀性小于1纳米。同Veeco携手，ALLOS期待着将该技术在micro-LED产业中更为推广。”
Micro-LED显示技术由<30x30平方微米的红、绿和蓝(RGB)无机LED组成，这些LED被转化为显示屏背板，以形成亚像素。与有机LED(OLED)和液晶显示(LCD)相比，这些高效的LED直接发射功耗更低，却可以为移动显示器、电视和可穿戴式计算机提供优异的亮度和对比度。Micro-LED的制造要求优质、均匀的外延晶圆，以满足显示屏的产量和成本控制的要求。
“和竞争对手的MOCVD平台相比， Veeco的TurboDisc®技术提供的制程窗口更大，因此Propel能提一流的均匀性同时还能获得优良的膜品质，”维易科高级副总裁兼MOCVD运营总经理Peo Hansson博士这样说。“将Veeco领先的MOCVD专业技术和ALLOS的硅基氮化镓外延晶片技术相结合，使我们客户能够开发出低成本的micro-LED，以便于在新的市场中开拓新的应用。”
史海拾趣
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