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2018年12月06日 | Silvaco CEO:三年前进入中国,看好IP和DTCO前景

2018-12-06

Silvaco是一家专为工艺和器件开发以及模拟/混合信号、功率集成电路和存储器设计提供软件工具的EDA领先供应商。 Silvaco为纵向市场提供了从TCAD到签收的完整流程,包括:显示器、功率电子、光学设备、辐射和软错误可靠性和先进的CMOS工艺和IP开发。 30多年来,Silvaco 使其客户能够降低成本并在最短的时间内向市场推出优秀的产品。该公司总部位于美国加州圣克拉拉,并在北美、欧洲、日本和亚洲均设有办事处。


目前,Silvaco已经成长为全球最大的EDA私营公司,并且有意思的是Silvaco当时只是(Silicon Valley Company)的临时名称,而现在,Silvaco依然代表着硅谷的创新精神。


同其他EDA公司的发展轨迹类似,Silvaco进入各项细分市场,大多数也都是通过收购完成。在现任CEO Dave Dutton的带领下,Silvaco近两年来在IP领域频繁收购,取得了显著成绩。


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值得一提的是,Silvaco进入IP市场的标志性事件是并购IPExtreme,关于这家公司的访问,请参考此前我采访IPExtreme创始人的文章:https://www.eeworld.com.cn/manufacture/2010/0608/article_3606.html,对于Silvaco的IP Reuse及软IP模式会有所了解。


近日,Silvaco受邀第一次参加中国集成电路设计业年会,在年会期间,Silvaco CEO Dave Dutton和中国区总经理房敏接受了媒体采访。

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Silvaco CEO Dave Dutton

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Silvaco 中国区总经理房敏


Silvaco在中国


Dutton表示,中国市场对Silvaco来说非常重要,中国是一个快速增长的重要市场,因此Silvaco要全力支持中国市场的发展,就Silvaco来说,不仅支持最先进工艺的IC设计及功率器件,同时也是全球平板显示领域的领导厂商,这些都是中国市场所需的产品。


房敏则补充道:“Silvaco是一个三十多年老牌公司,这家公司不仅仅是一家EDA公司,最近几年也增加了IP业务及服务甚至还有商业化的IP管理软件系统。”


“过去三年间,在中国区总经理房敏的带领下,中国区的业务增长非常强劲。3年前我们在上海建立了我们在中国的第一个办公室,今年夏天我们又在深圳设立了办公室,我也很期待我们将在北京很快成立新办公室。”Dutton说道。


Dutton认为,中国是一个非常独特的市场,也正因此,在当今巨变的半导体科技大浪潮下,Silvaco才会不断加大对中国的投入力度。“我们曾经依靠不断地减小器件的沟道尺寸从而获得更高的性能。而我们现在已经进入FinFET时代,而尺寸的缩小也变得越来越难以实现。我们只能从其他方面比如仿真、器件优化、版图优化、封装优化等去改善。中国有非常强大的制造能力及专业技术,同时现在也正在不断加强设计能力。因此从整个行业的角度来讲我们将会看到越来越多的中国公司。”Dutton表示。


房敏则说道:“Silvaco团队是世上顶尖的团队,因为我们服务的客户也是世上顶尖的。所以我们能把先进的前沿的技术带给中国,帮助中国市场发展。”


而关于中美关系对中国半导体产业的影响,Dutton说道:“目前从Silvaco来看并没有看到明显的影响,我们需要以更常态化的方式去克服对商业造成影响的因素。政治有时候考虑问题跟产业有所不同,我认为半导体是一个极其受技术驱动的市场,所以只要我们持续努力的加强技术投入,满足客户需求,就不会太受贸易问题的影响,中美两国是一荣俱荣一损俱损的。”


探寻芯片未来发展轨迹


Dutton表示,目前针对物联网、AI领域的算力还远远不够,所以Silvaco也在不断对研发投入,以满足未来的需求。Dutton举例道:“比如说系统除了CPU,周围还有大量的Memory,其存在大量的寄生电阻电容参数,而我们拥有业界最先进TCAD、SPICE等产品,可以精简寄生电阻电容参数而同时又能保证仿真的精度。另外我们前不久刚刚宣布跟普渡大学在原子级工艺器件仿真软件商业化方面的强力合作。因为在5纳米及以下工艺,原来的经典物理模型可能就已经不太适用了,可能实际需要一个一个电子地去计算,计算量非常的巨大。”


而对于量产方面来说,Silvaco的工具已经具备了机器学习能力,“能够考虑到所有不同的设计及工艺参数,依靠仿真确保客户的设计能达到6-Sigma的良率甚至更高。”


Dutton说道:“当一个新的时代来临时,不管是ASIC还是设计服务,都需要聚焦在更高的质量、更新的材料、更强的优化能力上,帮助客户在更新的工艺上减少成本,这也应该是所有厂商的投资重点。


Dutton强调道:“DTCO(Design Technology Co-Optimization)对先进工艺来说是一个巨大的挑战,它不光是和设计相关,更与工艺技术及整个生态系统紧密关联,因此需要大家的通力合作已获得一个很好的解决方案。”


就在12月3日,Silvaco宣布和CEA-Leti合作,为纳米时代的DTCO提供更加精准的解决方案。


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图中左为Iliya Pesic, Silvaco主席;右为Emmanuel Sabonnadière, CEA-Leti CEO


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