京东方科技改进Micro-LED显示装置的黑科技曝光

在显示技术领域，LCD液晶虽然占据大部分市场，然而近些年兴起的OLED, Micro-LED技术凭借其独特的优势逐渐映入大众视野，而作为国内显示领域的知名企业京东方公司早已布局这一新型显示技术，并可为智能手机、显示器、工业控制等诸多应用领域提供产品和服务。

相较于现有的LCD显示技术，Micro-LED具有发光效率好、功耗低，响应快的特点，由于采用红绿蓝三色LED芯片方案，因此面临着将数以千计的LED芯片搬到驱动背板上并实现发光的难题。为此，现有研发工作者提出蓝光Micro-LED，仅仅需要巨量转移一次，并降低生产成本和难度。然而LED点亮时产生的热量会使得发光效率衰减，从而容易导致器件失效，影响其寿命。

为此，京东方于2020年4月29日提出一项名为“一种显示装置及显示装置的制作方法”的发明专利（申请号：202010358026.9），申请人为京东方科技集团股份有限公司。

图1 显示装置截面图

图1是本发明专利提供的一种显示装置示意图，其衬底基板100上依次设置了薄膜晶体管、钝化层300、像素平坦层400和像素单元，每一个像素单元包括红/绿/蓝子像素，均由蓝光MicroLED521配合衬底基板的量子点层形成。与此前技术不同，此装置还在像素单元的遮光区域设置温度传感器，用于检测蓝光Micro-LED521点亮时的温度并实时反馈至像素驱动单元。如果检测到的温度超过了设定值，驱动单元调整LED的电流来降低其发热量，保证LED的发光效率，从而提升显示装置的寿命。

为保证更好的散热性能，需要在温度传感器周围布置导热性良好的导热胶，并以阵列形式将其分布在绿色/红色量子点层和散射离子层之间的像素区域中，并设置为长方形或者椭圆形结构。

图2 衬底基板形成薄膜晶体管结构图

参考图1和图2，本发明专利提出了显示装置的制作方法。首先在衬底基板100沉积缓冲层210，并制作有源层220实现图形化，制作栅极绝缘层230、栅极金属240、层间介质层250、第一源漏极1500层，完成薄膜晶体管的制作。然后制作PN结610，沉积钝化层300，并通过巨量转移工艺将蓝光Micro-LED521转移到像素平坦层400上面，并设置导热胶。紧接着在蓝光Micro-LED521背离衬底基板100的一侧和在量子点激发层的上方，制作第一/二薄膜封装层，然后利用光刻工艺进行图案化。最后在绿/红色量子点上分别制作绿/红色彩膜层，以及保护层，将带光学胶的覆盖层帖附在保护层上，形成完整的屏结构。

简而言之，京东方的这项Micro-LED的显示装置专利，结合蓝光Micro-LED和量子点层形成红绿蓝像素单元，并在遮光区域内加入温度传感器，检测LED点亮温度形成负反馈，进而大幅提升显示装置的寿命。

目前在未来技术的发展趋势上，Micro-LED等新型显示技术正在逐步成为主流，它可以将现有产品柔性化，提供更高品质的生活。为此，京东方公司一直致力于Micro-LED的技术创新，那未来这一技术到底会如何彻底影响生活呢？就让我们拭目以待