上海首创“超越摩尔”8英寸中试线
2017-10-23 来源:新民晚报
一个产品,从实验室到工厂,最难走的一段路是中试。因高成本低产出甚至无产出,对许多实验室里的前沿技术来说,中试期犹如一条看不见亮光的黑暗通道,无缘靠利润和市场来维持。记者昨天来到位于嘉定工业区北区的我国首条“超越摩尔”中试线,探访这家立志突破我国半导体产业“中试盲区”的研发创新平台。
超洁净的“悬空”厂房
穿上抗静电的洁净服、鞋子、手套、口罩后,经过风淋房将身上的微尘全部吹走……每天,上海微技术工业研究院MEMS技术工程总监徐元俊和他的同事们,都把自己装扮成超洁净的“白企鹅”,才能进入8英寸“超越摩尔”研发中试线,近5000平方米的十级洁净室,要求一分钟内每立方英尺空间内,大于0.2微米的微尘少于10颗!超级洁净室共有4个区域,分别为光刻区、薄膜区、刻蚀区和扩散区。硅片在“淬炼”成晶圆成品的100至200道工序中,不可沾染微尘,否则可能前功尽弃。
为此,整座厂房的设计费尽思量——层高8.8米的二楼分为3层,整个“中试线”的主要设备似乎“悬空”在中间层——看不见的上下两层,除铺设供应气体和化学品的管道外,还布满了用于“清洗”空气的设施。
“8英寸”产线国际领先
这样的精益求精,只为我国在“超越摩尔”领域真正有所作为。上海微技术工业研究院8英寸研发中试线厂长、运营副总裁游家杰指着闪闪发光的硅片,如数家珍:“一片8英寸晶圆直径达20厘米,分布着几百颗到数万颗不等的元器件。”要知道,在“超越摩尔”领域,业界还普遍使用6英寸产线,上海中试线却亮出了国际领先却少人问津的“8英寸”。
在这条全新的试验线上,每一位“超越摩尔”人心中都有一个信念:喜庆十九大,我国的科学创新必须从“跟跑”到“领跑”,前沿技术的中试环节要敢为人先!
纵观我国超越摩尔领域现状,经历多年的理论研究与技术验证,但实际应用与生产平台严重脱节。这源于微机电系统产品研发涉及的技术链条较长,其“非标”特性使得研发创新和生产之间匹配度不高,需要漫长的磨合期。
贯通研发到测试“闭环”
上月,作为上海科创中心建设“四梁八柱”中的重要节点之一,国内首条专注“超越摩尔”领域,面向微机电系统的8英寸中试线亮相,在国内半导体产业界引发了一场不小的“创新地震”——从前期研发到后期测试“闭环”有望被贯通。
一个月来,“超越摩尔”中试线上灯火通明,各岗位科技人员用实际行动迎接十九大的召开:为本月底即将完成的第一批产品温度传感器紧张忙碌着。一旦成功,这条月产量3000片晶圆的中试线,将为许多实验室里尖端的传感器技术,铺设一条走向市场的“光辉之路”。( 新民晚报记者 马亚宁)
上一篇:三星电子低调投资深鉴科技
- 英飞凌发布采用8英寸晶圆代工工艺制造的新一代CoolGaN晶体管系列
- Wolfspeed宣布新的8英寸碳化硅工厂封顶
- TrendForce 预计三星电子 8 英寸晶圆厂明年产能利用率仅 50%
- IQE 宣布推出可用于 MicroLED 显示器认证的 8 英寸 (200mm) RGB 外延产品
- 外媒:Diodes接管安森美南波特兰8英寸模拟芯片晶圆厂
- 规模化上车机遇不等人 SiC衬底的8英寸晋级之路
- 联电抢攻8英寸第三代半导体,新机台预计下半年进驻厂区
- WolfSpeed 8英寸SiC新厂试产 估计明年上半年贡献营收
- 8英寸布局加速,衬底单位成本三年时间几乎减半
- 睿显科技广西8英寸OLED微型显示芯片项目,进入开工建设新阶段
- 英特尔中国正式发布2023-2024企业社会责任报告
- 贸泽电子与Analog Devices联手推出新电子书
- AMD 推出第二代 Versal Premium 系列:FPGA 行业首发支持 CXL 3.1 和 PCIe Gen 6
- SEMI:2024Q3 全球硅晶圆出货面积同比增长 6.8%、环比增长 5.9%
- 台积电5nm和3nm供应达到"100%利用率" 显示其对市场的主导地位
- LG Display 成功开发出全球首款可扩展 50% 的可拉伸显示屏
- 英飞凌2024财年第四季度营收和利润均有增长; 2025财年市场疲软,预期有所降低
- 光刻胶巨头 JSR 韩国 EUV 用 MOR 光刻胶生产基地开建,预计 2026 年投产
- Imagination DXS GPU 已获得ASIL-B官方认证