SK 海力士宣布量产全球最高的 321 层 1Tb TLC 4D NAND 闪存,计划 2025 上半年对外出货
2024-11-21 来源:IT之家
11 月 21 日消息,SK 海力士刚刚宣布开始量产全球最高的 321 层 1Tb(太比特,与 TB 太字节不同)TLC(Triple Level Cell)4D NAND 闪存。
据介绍,此 321 层产品与上一代相比数据传输速度和读取性能分别提高了 12% 和 13%,并且数据读取能效也提高 10% 以上。
SK 海力士表示:“公司从 2023 年 6 月量产当前最高的上一代 238 层 NAND 闪存产品,并供应于市场,此次又率先推出了超过 300 层的 NAND 闪存,突破了技术界限。计划从明年上半年起向客户提供 321 层产品,由此应对市场需求。”
据介绍,SK 海力士在此次产品开发过程中采用了高效的“3-Plug”工艺技术,克服了堆叠局限。
IT之家查询获悉,该技术分三次进行通孔工艺流程,随后经过优化的后续工艺将 3 个通孔进行电气连接。在其过程中开发出了低变形材料,引进了通孔间自动排列(Alignment)矫正技术。
此外,SK 海力士技术团队也将上一代 238 层 NAND 闪存的开发平台应用于 321 层,由此最大限度地减少了工艺变化,与上一代相比,其生产效率提升了 59%。
相关文章
- 消息称内存原厂考虑 HBM4 采用无助焊剂键合,进一步降低层间间隙
- 消息称特斯拉与SK海力士正洽谈1万亿韩元的企业固态硬盘订单
- SK海力士宣布大规模量产12层HBM3E芯片,实现36GB最大容量
- SK海力士:美股七大科技巨头均表达定制HBM内存意向
- 因 HBM3/3E 内存产能挤占,SK 海力士 DDR5 被曝涨价 15~20%
- SK 海力士率先展示 UFS 4.1 通用闪存,基于 V9 TLC NAND 颗粒
- 消息指SK海力士加速NAND研发,400+层闪存2025年末量产就绪
- 消息称 SK 海力士考虑推动 NAND 业务子公司 Solidigm 在美 IPO
- SK 海力士加大环保投入,在芯片生产工艺中使用氟气替代三氟化氮
- 消息称 SK 海力士 HBM4 内存使用台积电 N5 版基础裸片
- 富昌电子于杭州举办技术日活动,聚焦新能源“芯”机遇
- 消息称铠侠最快明天获上市批准,市值有望达 7500 亿日元
- 美国政府敲定对格芯 15 亿美元《CHIPS》法案补贴,支持后者提升在美产能
- SK 海力士宣布量产全球最高的 321 层 1Tb TLC 4D NAND 闪存,计划 2025 上半年对外出货
- 三星电子 NRD-K 半导体研发综合体进机,将导入 ASML High NA EUV 光刻设备
- 芯片大混战将启:高通、联发科涉足笔记本,AMD 被曝入局手机
- Exynos 2600 芯片成关键,消息称三星将打响 2nm 芯片反击战
- 曾称华为不可能追上!台积电制程遥遥领先,2nm未量产已招大客户抢单
- Arm Tech Symposia 年度技术大会:诠释面向 AI 的三大支柱,与生态伙伴携手重塑未来
最新频道