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2018年09月17日 | 新建产线中设备支出占比高达80%，ASML看好中国市场未来表现
2018-09-17 来源：爱集微
集微网（文/茅茅）随着中兴事件，以及中美贸易摩擦的不断升温，人们开始逐渐认识到集成电路的重要性。但是集成电路行业因其高投入、高风险、周期长、回报慢的特点，总会使得众多企业望而却步。与此同时，发展集成电路也是一项系统性工程，需要设计、制造、封测、材料、设备等全产业链的整体提升。
目前，在全球集成电路行业中，中国在IC设计和封测领域都已拥有一定的话语权，但是在设备和材料领域却仍处于落后阶段。众所周知，设备和材料业处于产业链的最上游，虽然整体市场规模较小，但是技术门槛较高，重要性也不言而喻。尤其是对于设备业来说，随着全球新建的晶圆厂不断向国内集中，设备的投入也是与日俱增。
半导体设备的投入与日俱增
毋庸置疑，中国是全球集成电路产业上发展最快的区域。据国际半导体协会（SEMI）预估，2017年到2020年全球将有62座新晶圆厂投产，其中将有26座新晶圆厂座落中国，占比达42%。值得一提的是，新晶圆制造厂从建立到生产的周期大概为2年，一条新建产线最大的资本支出来自于半导体设备，资本支出占比高达80%，而厂房建设占比仅20%。
来自西南证券的报告指出，根据2017年美国加州UC Berkeley大学的理论数据，一条月产12英寸硅片5万片的生产线，需要50台光刻机、10台大束流离子注入机、8台中束流离子注入机、40台付蚀机以及30台薄膜淀积设备等，估计各类设备的总计台(套)要超过500个。
由此可见，随着新建晶圆厂的不断增加，半导体设备的重要性也变得越发不容忽视。
据集微网了解，在整个半导体制造设备中，晶圆制造设备的占比最大，投资占比高达80%。而在晶圆制造设备中，又以光刻机的占比最高，约占30%，其次分别是刻蚀设备(20%)，PVD(15%)，CVD(10%)，量测设备(10%)，离子注入设备(5%)等。
光刻工艺定义了半导体器件的尺寸，是IC制造中的关键环节。而光刻机作为光刻工艺的核心设备，也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术，其设备投入相应最多，目前世界上最先进的ASML EUV光刻机单价达到一亿欧元（约8亿元人民币）。
高端光刻机的垄断者ASML
从全球市场来看，光刻机长期由ASML、尼康和佳能三家把持。西南证券的报告指出，从2011-2017历年全球光刻机出货比例可以看出，ASML、尼康和佳能三家公司几乎占据了99%的市场份额，其中ASML光刻机市场份额常年在60%以上，市场地位极其稳固。
值得一提的是，在顶级光刻机市场中，ASML处于一家独大的格局。2011-2017年顶级光刻机累计出货量中，EUV完全由ASML垄断，出货来源达到100%，ArFi光刻机超过80%也都由ASML提供。尼康和佳能的先进制程远落后于ASML，主要市场在中低端，最大优势仅在于成本。
作为世界领先的半导体设备制造商，ASML公司一直保持着高水平的营业收入和净利润。尤其是自2016年推出EUV设备后，营收和净利润再次实现大幅增长。平均来说，目前ASML中高端设备单台售价超过7000万美元（约4.8亿元人民币），高端EUV设备单台售价超过1亿美元（约6.8亿元人民币）。
图源：西南证券
从ASML的2018年第一季度财报来看，第一季度实现营收22.85亿欧元（约182亿元人民币），高价值的EUV销售量仅一台就贡献7%的营收，公司预计2018全年EUV收入将达到21亿欧元（约167亿元人民币）。而从终端市场看来，主要下游市场在于存储芯片，营收12.27亿欧元（约98亿元人民币），占比达53.7%，较2017年的32.8%有很大提升。
ASML开始积极扩展中国市场布局
随着中国在全球集成电路行业中的地位不断提升，以及全球新建的晶圆厂不断向中国集中，ASML也开始加大在中国市场的布局。在近日于无锡举办的“ 2018中国集成电路产业发展研讨会暨第二十一届中国集成电路制造年会”上，ASML中国区总裁沈波表示，ASML在中国市场已深耕18年，持续引进光刻技术、拓展布建客户服务网络、强化与国内研发单位合作，并积极培养国内光刻人才。
ASML中国区总裁沈波
沈波指出，目前，ASML在中国有13个办公室并设立物流仓储中心，以提高客户支援的效率。同时，ASML在深圳和北京设有上百人的研发中心，负责计算光刻和量测设备关建模组的研发。近期在上海与ICRD合作，成立了第一个培训中心，协助行业培训高端工程人才。
当然，ASML不断加大中国市场布局的最大原因还在于，中国占ASML业务比重越来越大。据沈波透露，2018年上半年中国市场占其总营收约20%，预计全年平均约可达到15%左右。
据集微网了解，从今年年初至今，国内已有多家晶圆厂采购ASML的光刻机设备，且每台都价值不菲。包括中芯国际花费1.2亿美元引进首台EUV光刻机、长江存储花费7200万美元引进首台193nm浸润式光刻机、上海华力微电子引进首台NXT 1980Di光刻机。
对于ASML来说，今年是公司EUV机台上非常重要的一年，因为7nm工艺制程的研发离不开EUV。沈波表示，今年客户会把EUV技术导入量产，目前EUV机台每小时产出片数达125片，在实验室中可达140片，且光源250瓦的稳定性很高。目前公司也在积极扩充产能，从年产能20台，明年提升至30台，后年再提升至40台。
光刻机作为集成电路产业中最具关键性的基础装备之一，重要性不言而喻。从目前来看，ASML在光刻机领域的霸主地位暂无人能够撼动。但是，一颗芯片的生产制造并不是有了光刻机就能确保万无一失，还需要整个产业链上下游众多环节的配合，才能顺利生产。随着中国在全球集成电路产业中的地位提升，而ASML未来在中国市场的表现也值得期待。
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