埃赛力达推出适用于340 nm-360 nm波长范围的LINOS UV F-Theta Ronar低释气透镜

埃赛力达推出适用于340 nm-360 nm波长范围的LINOS UV F-Theta Ronar低释气透镜

其优化设计可最大限度地减少激光材料加工应用中扫描区域内的释气和光斑尺寸变化

埃赛力达科技有限公司（Excelitas Technologies®）是一家创新的致力于改变人们生活的先进技术供应商，为生命科学、先进工业、下一代半导体、航空航天和国防终端领域的全球知名品牌提供服务。该公司近期推出了适用于252 mm中等焦距范围的LINOS® UV F-Theta Ronar低释气透镜。新款LINOS F-Theta镜头专为配合埃赛力达 LINOS UV 扩束镜而设计，与传统产品相比具有更优异的耐用性，可支持激光材料加工中所需的更高的UV

脉冲能量和更短的激光脉冲，可广泛用于半导体、晶圆加工、电子显示器和太阳能电池制造等领域。

该透镜通过显著减少辅助材料和洁净装配工艺，实现了优异的耐用性。其独特的UV设计采用了高品质熔融石英透镜和高端宽带透镜镀膜，不仅确保了出色的光学性能，还有效减少了背向反射。其优化的包装和防尘材料进一步提升了镜头的低释气性能。此外，埃赛力达还优化了生产、镀膜、物流、仓储和装配流程，从源头到成品全程降低污染风险，确保组件在整个工作流程中的高质量。

主要规格和特性：

• 减少释气：采用先进的设计和生产工艺，实现优异的低释气性能

• 优化设计：适用于340 nm和 360 nm紫外波长，采用高端宽带镀膜

• 精确的扫描性能： 扫描场内的光斑尺寸变化较小，在10 mm扫描光圈下的扫描场范围为 142 mm² x 142

• mm²米，15 mm扫描光圈下的光斑尺寸可小至 11 µm

• 改进的处理能力：可应对高功率和短脉冲应用需求

• 长期光学稳定性：采用先进技术制造，确保镜头的耐用性和可靠性

• 优化背向反射：有效减少扫描仪镜面损伤，并延长使用寿命

• M85x1机械接口：便于轻松集成到各种系统中

“凭借其创新的减少释气设计和扫描场内光斑尺寸变化，LINOS UV F-Theta Ronar低释气透镜重新定义了激光材料加工的光学性能和可靠性。我们很高兴将这一解决方案纳入LINOS F-Theta-Ronar产品系列中。”埃赛力达产品经理Matthias Koppitz表示