本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： Successful MEMS products：accelerometer继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 电源设计小贴士36：使用高压 LED 提高灯泡效率 FPGA Verilog开发实战指南——基于Intel Cyclone IV 汽车eCall电源解决方案 CES 2015: 低功耗Bluetooth Smart平台 WiLink 8Q解决方案：汽车高性能连接 2021_Digikey KOL系列：亲手教你转起一台无刷电机 利用SPC5Studio新特点进行配置和开发 嵌入式实时操作系统VxWorks介绍 热门下载 一种零NRE的可编程ASIC eASIC 基于m序列的音频水印隐藏算法 离子交换除盐水处理器的失效控制 苹果iPod Touch和iPhone拆机对比评测 射频基础知识 生产方案及MT8820A STK086G.pdf 基于FPGA的多功能频率计的设计 208PBGA Schematic Capture with Cadence PSpice .pdf 热门帖子 【LPC54100】环境初上手，注册很好玩 很久以前用过一次NXP的东东还是在MDK环境下这次决定使用一下NXP自有的编译环境LPCXpress大家可以到这里下载：https://s3.amazonaws.com/LPCXpresso7/LPCXpresso_7.6.2_326.exe最新的版本到7了比较苦闷的是，这个链接只支持浏览器单线程下载，不到200k的速度要等等然后是安装，比想象中的来得快打开IDE，速度也是比较快比起AtmelStuidio来说，简直是秒杀AS看看主界面和CCS有几分相似都是开源 ljj3166 过年小礼！两百个模电问题给你啦 1、半导体材料制作电子器件与传统的真空电子器件相比有什么特点?答：频率特性好、体积小、功耗小，便于电路的集成化产品的袖珍化，此外在坚固抗震可靠等方面也特别突出；但是在失真度和稳定性等方面不及真空器件。2、什么是本征半导体和杂质半导体？答：纯净的半导体就是本征半导体，在元素周期表中它们一般都是中价元素。在本征半导体中按极小的比例掺入高一价或低一价的杂质元素之后便获得杂质半导体。3、空穴是一种载流子吗?空穴导电时电子运动吗?答：不是，但是在它的运动中可以将其等效为载流子。空穴导电时等电 qwqwqw2088 请问哪位会设计MIDI控制器？（和图片类似） 请联系我！ 请问哪位会设计MIDI控制器？（和图片类似）请联系我！QQ：17558445@qq.com电话（微信）：13760709491请问哪位会设计MIDI控制器？（和图片类似）请联系我！这个不是有陈品吗？没弄过，帮顶~控制电脑音乐? echojiejie2015 STM32建立固件库工程 关于工程MDK就不过多介绍，直接开始建立搭建工程：1)首先我们先建立以下文件目录：Core用来存放CM3核心文件和启动文件，Libraries用来存放库文件和头文件，OBJ是用来存放编译过程文件以及hex文件，User存放自己的文件。2)相应文件建立好了，我们可以进行添加相应文件，首先把目录\\STM32F10x_StdPeriph_Lib_V3.5.0\\Libraries\\CMSIS\\CM3\\CoreSupport下的core_cm3.c和core_cm shmily53 救急SPI没有时钟信号 STM32F207配置好好运行时示波器显示没有没有时钟信号救急SPI没有时钟信号配置错了吧使用什么库写的？如果你用的是硬件接口配的，就检查各个寄存器的值是否正确，或者Io口模拟看看有没有波形。端口设置对没同意楼上的，看你的io设置是否正确。一直发数据看下，能不能有信号。 成都回锅肉 跨年大晒——我与TI的结缘 活动时间：即日起——2015年1月25日你是从什么时候开始接触TI的芯片或者开发板呢？你是否有一种相识恨晚的感觉呢？你在使用TI的芯片或开发板是否有一些有趣的故事或者好玩的设计跟大家分享呢？聊聊选择TI产品的原因及使用过程中的感受，在哪里得到技术支持？（官网或是非官网）活动流程：1、在TI技术论坛以“【我与TI的结缘】+内容”发帖；2、讲述接触TI开发板/芯片的型号与时间，分享自己曾经做过的TI设计方案及使用感受等 EEWORLD社区 网友正在看 人工智能中的哲学 缸中之脑 10.1 了解和比较高速模数（ADC）和数模转换器（DAC）转换器架构 3.5 I²C通讯简介 Geomeric Mali 游戏演示 LavVIEW程序结构设计 3 使用蒙特卡罗 SPICE 工具进行误差统计分析 Image Compression（四） UCD3138模拟前端（AFE）模块：触发EADC
