本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 OpenCL统一的异构编程 电源设计小贴士21：请注意电容RMS纹波额定电流 PMSM控制技术：功率级 - 第3章电机控制电子实验室 UNIX 操作系统 嵌入式Linux C应用编程 Vivado IP集成器（IPI）教程 东芝高交会在线展会 开关稳压器的功率损耗 热门下载 基于智能小区安防系统的人脸识别.pdf 基于WinCE_5.0的电脑绣花机花样管理系统的研究 直流开关电源的软开关技术 转向／刮水／后雾灯控制用组合继电器的设计 md5加密解密算法；里面自带pb例程；希望对大家有用 80C196单片机控制闭环逆变系统的研究 航空图像压缩系统的DSP设计及实现 校园信息发布系统 SIM800 TCPIP应用文档 介绍AVR单片机多定时器中寄存器和及简单使用 热门帖子 请大家帮忙看下这个电流检测电路的IL和Vo的关系，看了半天也没搞懂关系 请大家帮忙看下这个电流检测电路的IL和Vo的关系，看了半天也没搞懂关系运放工作于线性状态，两个输入端电位必须相等(理想运放)。今R1为0.1欧，R2为100欧，所以流过R2的电流必定是0.001倍IL。三极管集电极电流与发射极电流近似相等，R3为1000欧，故Vo近似等于0.001IL*1000欧=(1V/1A)IL。一个负载电流限制电路,R1是电流采样电阻,改变R3控制IL。 有个疑问，图中接法似乎是正反馈吧？是否能让运放工作在线性状态？一般是用负反馈接法吧？ 秋天的琴湖 LM4F120开发板终于收到了。。。 今天早上终于收到了LM4F120，等了近两个月啊，不容易啊。。。有没有别我先收到的啊。。。。。。。。。。LM4F120开发板终于收到了。。。一直不明白你们是怎么搞定的，我的订单早早被取消了没有什么特别的，按照要求填就OK了。。。。。回复沙发shower.xu的帖子我的订单上写的是11月26号发货，悲了个催LZ真快我的这个16号发货快递有没有打电话给你确认地址？什么时候的活动啊有问地址，之后一会送到。。。。回复6楼j03128的帖子现在应该也可以买，就是那个 zhaojun_xf TMS320F28022工程模板 哪位仁兄有TMS320F28022工程模板，外接晶振为20MHz的无源晶振，谢谢啦TMS320F28022工程模板官网应该有下吧。chenbingjy发表于2014-11-2617:37官网应该有下吧。 没有啊，我找了半天，你有现成的模板吗？能发我QQ邮箱吗，496269080@qq.com我没有。controlsuite里面有28027的原理图和参考代码，28022可以参考28027.kata发表于2014-11-2709:28contr kelywu 液晶经典故障修复全程纪实 本帖最后由jameswangsynnex于2015-3-320:02编辑液晶显示器越来越受到用户的欢迎，全球几大显示器生产厂商也将战略眼球转向了液晶显示器，但是和CRT显示器一样，液晶显示器的故障率照样也是存在的。很多用户并没有了解液晶显示器的内部结构，一出现问题只能求助于售后服务公司，如果是过了保修期的话还得付上一笔不小的维修费用。下面的一篇文章是液晶显示器中比较经典的一个故障，希望在为大家解决这类故障之余，也能给大家普及一下液晶显示器的内部结构知识。 TCLML-5 ruijia UCF约束系列－管脚约束 举例：moduledesign_top(clk,A,B,C,D,E);endmodule则NETALOC=E2; NETBLOC=E3|IOSTANDARD=SSTL2_II;NETCLOC=B15;NETDIOSTANDARD=SSTL2_II;以上是最简单的简单的应用了，主要是位置约束LOC，和电平标准IOSTANDARD。还有其他的一些应用，比如IODELAY,DCI等UCF约束系列－管脚约束 樱雅月 LIN转串口的电压问题 请问高手，lin转串口，lin端电压一定要是12V吗？谢谢LIN转串口的电压问题不一定。LIN总线标准电压为12V，设计和运作并不严格要求一定是12V。LIN转串口的电压并不一定要是12V，但用12V可以确保与大多数LIN收发器的兼容性。LINbus需要电源上拉，这个电源一般都是12v蓄电池，所以肯定是需要的LIN还需要转串口么？直接串个电阻，再弄个稳压管直接就进TTL引脚上去不就行了？ chenbingjy 网友正在看 如何在Altera SoC启动一个机遇Linux的设计（2） 2 树莓派型号指南 散列冲突处理 Putting It Together 优化宽带零中频接收器的性能 Lagrange Dual SVM 电力电子基础 Qt使用开发板上的按键
