本课程为精品课,您可以登录eeworld继续观看: Electron beam lithography:resists继续观看 课时1:Teaser 课时2:Successful MEMS products:accelerometer 课时3:Successful MEMS products:microphone 课时4:Successful MEMS products:BAW 课时5:Case study:thermomechanical microactuator 课时6:Cleanroom basics:introducing the issue of contamination 课时7:Cleanroom basics:cleanroom strategy 课时8:Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9:CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10:Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11:Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12:CVD thin film growth model 课时13:Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14:Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15:Thermal evaporation:introduction and vapor creation 课时16:Thermal evaporation:film formation and examples 课时17:Thermal evaporation in CMi 课时18:Sputtering:introduction and plasma formation 课时19:Sputtering:spatial zones and Paschen law 课时20:Sputtering:DC RF magnetron 课时21:Sputtering:ion target interactions 课时22:Sputtering:film growth and control parameters 课时23:Sputtering:examples 课时24:Sputtering in CMi 课时25:SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26:Film growth:atoms arrival and adhesion 课时27:Film growth:stress in thin films 课时28:SUPPLEMENTARY Film growth:growth modes and crystal structure 课时29:Introduction to lithography 课时30:Resist properties and exposure methods 课时31:SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32:UV lithography:direct writing and mask writing 课时33:UV lithography in CMi:mask fabrication 课时34:UV lithography:mask based lithography 课时35:UV lithography in CMi:mask based lithography 课时36:Electron beam lithography:tool overview 课时37:Electron beam lithography:electron optics and beam deflection 课时38:SUPPLEMENTARY Electron beam lithography:tool overview II 课时39:SUPPLEMENTARY Electron beam lithography:design preparation and fracture 课时40:Electron beam lithography:electronsample interactions 课时41:Electron beam lithography:resists 课时42:SUPPLEMENTARY Electron beam lithography:proximity effect 课时43:Alternative patterning methods:scanning probe lithography 课时44:SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods:replication methods 课时45:Dry etching in a gas plasma:etching anisotropy 课时46:Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47:Theoretical concepts of plasma generation 课时48:Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49:Ion beam etching 课时50:Examples of etching processes for Sibased materials 课时51:Examples of etching processes for organic films and metals 课时52:Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53:HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54:Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55:Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56:Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57:Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58:Optical microscopy:inspection and dimension measurement 课时59:Optical thin film thickness measurement 课时60:Optical surface profile measurement 课时61:Mechanical surface profile measurement 课时62:Scanning electron microscopy 课时63:Focused ion beam:local cross sectional inspection and measurement 课时64:Electrical characterization 课程介绍共计64课时,11小时13分5秒 微纳加工(半导体制造工艺)瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺,以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者:桂花蒸 猜你喜欢 电源设计小贴士27:压降式并行电源供应 英飞凌XMC1000单片机家族介绍歌曲串烧 用LaunchPad BoosterPack生态系统快速建立原型(3) [高精度实验室] 接口 : (3) Ethernet 以太网 CES 2015焦点: maXTouch T Series手势解锁功能演示 自动控制理论 结合升降压拓扑和 USB Type C™ 供电,以实现最大功率密度 CSS3疯狂5小时 热门下载 [资料]-JIS B4313-2002 High-speed steel two-flute twist drills-Technical specifications.pdf [资料]-JIS B3512-2007 可编程序控制器.现场网络标准的试验和检定(1级)(修改件1).pdf [资料]-JIS B6203-1998 升降台式卧铣床 准确度的测试1.pdf [资料]-JIS F8521-2012.pdf [资料]-JIS F8522-2012.pdf [资料]-JIS D4311-1995 汽车用离合器衬片.pdf [-]-jis a1204-2009 土壤粒度分布的试验方法.pdf [资料]-JIS S2006-1994 Vacuum bottles.pdf [资料]-JIS D3636-2003 道路车辆.柴油机燃料喷射泵试验.枢轴型校准喷嘴.pdf [资料]-JIS C8152-1-2012 照明用白色発光ダイオード(LED)の測光方法-第1部:LEDパ.pdf 热门帖子 简单,抗干扰能力强,可调整PWM并带驱动MOS输出的IC...谢了 走过,路过,都帮忙顶下...谢谢简单,抗干扰能力强,可调整PWM并带驱动MOS输出的IC...谢了使用环境温度是100摄氏度左右...频率工作范围:45---200KHzRe:简单,抗干扰能力强,可调整PWM并带驱动MOS输出的IC...谢了看看TL494合用不Re:简单,抗干扰能力强,可调整PWM并带驱动MOS输出的IC...谢了 supertrendbruce 大哥哥大姐姐 新手求救!!一个关于EVC程序部署到PDA上去的问题 我是个新手请问如何将一个EVC程序部署到PDA上去,我在EVC上运行程序是报Cannotexecuteprogram的错误,各位帮帮忙,我不知道是为什么大哥哥大姐姐新手求救!!一个关于EVC程序部署到PDA上去的问题你必须使用支持PDA对应的SDK编译程序,然后再部署程序到PDA才可以执行。哦谢谢我别的程序都行就这一个报错,我把它拷到PDA上面也不能运行那可能就是缺少一些dll文件,比如需要MFC的支持则需要mfcce400.dll,atl也有其对应的支持的dll wybetter window CE 内存共享问题 请问大侠,我想在CE想利用内存共享技术实现进程间的数据通讯,但是由于CE下面没有OpenFileMapping函数,有没有方法可以解决?windowCE内存共享问题怎么没有人回答啊!!!!~~~~好像是使用CreateFileMapping吧这是相关EVC的代码,还是很好使的//创建内存共享体(INVALID_HANDLE_VALUE)m_hSharedMemoryFile=CreateFileMapping((HANDLE)0xFFFFFFFF, a8200845 想买一个开发板自己搞点东西,帮忙介绍一个好一点得!! 作很多项目(嵌入式linux、vxworks、symbian等),但总觉得还缺点什么,功力稍欠火候!!想买一个开发板自己搞点东西,帮忙支支招。多谢!!注:最好能跑linux、vxworks、wince。想买一个开发板自己搞点东西,帮忙介绍一个好一点得!! jgalz 请教单片机 我是个初学者 我本来是学车辆工程的不过我认为以后汽车上的单片机会很快的发展.现在我的毕业设计是单片机在发动机中的应用现在可以说我对这东西还不是很清楚~~请那个高手教我哈从那里下手容易点我电路知识知道些放大电路及一些滤波整流和一点少数的数字电路对于汇编我书上的好多能看懂了不过还没写过程序因为到现在我还没找到汇编的运行环境可是对一单片机的引脚我知道一点点可以说我现在还什么都不知道实验怎么弄我都还不知道请教单片机我是个初学者在别的贴子里好像看到你手头的现成的学习用的平 lyb358 关于多个GPRS MODEM同时拨号的问题? 我电脑两个串口上连接两个GPRSMODEM同时拨号上网,默认情况下是使用一个连接.我想在程序中控制两个连接怎么同时使用呀,即有的数据通过一个连接发送出去,另外一些数据通过另外一个连接发送出去呀,应该怎么办呀,请各位帮忙.非常感谢呀!关于多个GPRSMODEM同时拨号的问题?这样比较麻烦的,因为gprsmodem拨出来的地址都是动态的!如果是固定的好办,可以指定IP来收发数据,这样你这个程序也比较好做了。麻烦了,看看有没有办法做一个地址池,然后把动态IP对照某一个固定IP,这样来做可能会 mhw1216 网友正在看 FPGA簡介_微處理器與FPGA 血糖仪研讨专场 例子-复杂门等效反相器设计 数模混合信号电路设计 华清远见嵌入式在线视频教程——3、嵌入式Linux开发应用介绍 直流有刷电机专题-第27讲 直流有刷电机PID双环控制(电流+速度环) 4、Thread/BLE双模开发技术讲座 数据结构37