本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： Basic principles of CVD and CVD reactors继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 2015电源设计研讨会：无线功率传输（1） TIDA-01040 大电流电池测试设备参考方案 运算放大器简介 TI 工业应用研讨会 2015 Sitara 实现智能伺服 针对照明解决方案的PIC12F(HV)752/PIC16F(HV)753产品概览 意法半导体Teseo定位系统 高大上的无叶风扇原来自己也能动手做 热门下载 一种零NRE的可编程ASIC eASIC 基于m序列的音频水印隐藏算法 离子交换除盐水处理器的失效控制 苹果iPod Touch和iPhone拆机对比评测 射频基础知识 生产方案及MT8820A STK086G.pdf 基于FPGA的多功能频率计的设计 208PBGA Schematic Capture with Cadence PSpice .pdf 热门帖子 NXP LPC1768宝马开发板 第二十章 宝马1768——TEA5767收音机 第二十章宝马1768——TEA5767收音机开发环境：集成开发环境μVision4IDE版本4.60.0.0主机系统：MicrosoftWindowsXP开发平台：旺宝NXPLPC1768开发板20.1TEA5767简介20.2硬件描述20.3程序说明 旺宝电子 频率发生器的问题 我用ATMEGA8，16M晶振，写了个CTC模式频率生发器：然后用按键控制OCR1A，达到控制OC1A脚产生频率，发现OC1A脚频率在1M赫兹时，频率下降很快，可是到大约4KHZ的时候，再往下降，非常的慢，到500HZ时，都是0.1HZ地往下降，（按键一直按下时，频率一直下降）。我的需求是：用按键控制，实现一个10HZ-100KZ线性变化的频率发生器，求大神指导个思路频率发生器的问题办不到的事。单片机的定时器，计数到某一设定值即重新开始计数，此即CTC模式。16MHz时钟，产生1MHz wensir 求教波形是如何产生的 书上说，方波通过上面的电路，输出的波形如下：请高手给详解一下波形产生的过程\0\0\0eeworldpostqq求教波形是如何产生的没有输入波形，谈什么输出波形如何产生？猜测输入是持续时间为t1～t3(实际要比t3早一些结束)的矩形脉冲。如果是的话，那么t1～t3的输出是由于输入脉冲使三极管V2饱和导通产生的，t3～t4较低的“平台”是变压器电感储能产生的(此时三极管已关断)。maychang发表于2015-2-100:38没有输入波形，谈什么输出波形如何产生 通通 最佳兼容性和快速USB充电方案（D1522，21应用资料） \0\0\0eeworldpostqq最佳兼容性和快速USB充电方案（D1522，21应用资料） blink NXP LPC1768宝马开发板第9章PWM输出 第九章宝马1768——PWM输出开发环境：集成开发环境μVision4IDE版本4.60.0.0主机系统：MicrosoftWindowsXP开发平台：旺宝NXPLPC1768开发板9.1PWM9.2硬件描述9.3程序说明9.4实验现象 旺宝电子 VerilogHDL那些事 \0\0\0eeworldpostqqVerilogHDL那些事这本电子书不错黑金出品的谢谢楼主分享 HHeLi 网友正在看 人工智能中的哲学 缸中之脑 10.1 了解和比较高速模数（ADC）和数模转换器（DAC）转换器架构 3.5 I²C通讯简介 Geomeric Mali 游戏演示 LavVIEW程序结构设计 3 使用蒙特卡罗 SPICE 工具进行误差统计分析 Image Compression（四） UCD3138模拟前端（AFE）模块：触发EADC
