本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： CVD thin film growth model继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 直播回放：Keysight 是德科技 示波器在通用电子测量中的应用和技巧 Atmel|SMART 基于Cortex M0+核的MCU（全中文版） 高信噪比和失真的双16位/24位高精度Δ-Σ模数转换器 EEWORLD DIY——低功耗蓝牙、USB双模机械键盘功能演示 智能楼宇无线解决方案 TI FPD-Link III 汽车芯片组，汽车视频传输理想解决方案 PIC32MX1/MX2入门开发工具套件 电力系统分析（清华大学） 热门下载 浅谈检测／校准用软件的可靠性验证 基于C8051F激光器驱动电源仿真与设计 8098单片机与免提语音芯片MC34118的接口 AVR单片机＋CPLD体系在测频电路中的应用 Altium Designer原理图库 接口器件.SchLib 模块原理图 MK_可编程设计范例大全.pdf 各种排序算法的比较 Sprint-Layout V5.0免安装中文版 JIS K0128-2000 Testing methods for pesticides in industrial water and waste water.pdf 热门帖子 安装了IAR5.2,破解失败,怎么回事啊,用5.2的朋友进来看看 FatalError:Copyprotectioncheck,Novalidlicensefoundforthisproduct对程序进行编译就会有这个错误,用软件破解了啊,也在网上查了,但是还是没有解决我卸载好几遍了希望高手帮助啊安装了IAR5.2,破解失败,怎么回事啊,用5.2的朋友进来看看用iarew430v4.20的和谐文件就可以了，网上可下。顺手上传了吧，省得大家麻烦了。（用于iarew430v5.30也可） ypc8272805 模拟数字考试不难（暮森的模拟电路串讲，原创 模拟数字考试不难（暮森的模拟电路串讲，原创）作者：暮森（转自：www.ezikao.com.cn，如果联系我请到易自考“模拟电路”版块）对于模拟电路大家都觉得比较难，确实模拟电路数字电路在计算机专业中的学分比重比较大，内容比较多，理解起来比较困难，但是我们却不能对他放松警惕，我们不要再模拟数字的文章中搞运，要将它们把握在手心中玩弄。做到这点就要在学习中学会翻身。先让我来说说我的学习方法吧！我这个学期报了模拟数字电路的辅导班，这样大家可能觉得我学习起来会比较轻松，其实 fighting STM32F4系列的UID代表什么意思？ STM32MCU的ID号码是96位，有谁知道这些位代表的含义吗？现在想给每个产品一个32位的唯一ID，考虑是不是可以从MCU的ID里面截取32位作为产品的唯一ID.如果不知道代表含义的话，随便截取32位就很有可能是重复的.找个ST的技术支持太难了，看论坛里有没有大牛可以帮忙。感谢！STM32F4系列的UID代表什么意思？那你把ID计算一下缩短成32位不就行啦 用什么算法能保证输出的32位不会重复呢？哎，何必那么麻烦，要是我，直接在flash地址的最后一页，找个地 wjroy11 matlab怎么将数据传递给pspice 请问matlab怎么将数据传递给pspice。比如说我用simulink建立了pwm的信号源，怎样将此信号源产生的数据传递给pspice，通过pspice中建立好的模拟电路，产生输出，来验证这个模拟电路是否合格。谢谢^_^matlab怎么将数据传递给pspice这个能？记得在MATLAB可以调用C等；但是在C中无法调用MATLAB》帮顶下。我也不知道能不能行得通，所以看看有没有人做过这个我还头一次听说，要学习学习！我也遇到过同样的问题怎么解答？大侠 szhgx26 请问msp430开发板怎样用??和51单片机有什么区别？？详细一点的。。谢谢 请问msp430开发板怎样用??和51单片机有什么区别？？详细一点的。。谢谢请问msp430开发板怎样用??和51单片机有什么区别？？详细一点的。。谢谢430的开发板有很多，目的都是便于msp430使用的学习或者原型开发，具体的使用办法在开发板的说明书里面都会有。至于51和430的区别就比较大了。1、构架。计算位宽上MSP430是16位单片机，而51为8位；指令集也是不同的。2、功耗。430目前基本上是业界最低功耗的MCU，它的功低耗是51基本达不到，主要是MSP430具备一个丰富的时 pangchao 【2024 DigiKey 创意大赛】带健康提醒的86盒桌面助手 **一、作品简介**设计名称：带健康提醒的86盒桌面助手作者：pomin项目用到的板卡：使用ESP32-S3-LCD-Ev-Board开发板，采用的是ESP32-S3这款MCU，板卡板载了4寸的电容触摸屏，功能强悍，做HMI应用十分合适。作品功能介绍：借此次得捷大赛的机会，制作了一款带健康提醒的86盒桌面助手，86盒可以摆在桌子上，实时地检测前方的温度，也就是监测使用者的体表温度，并显示在屏幕上面，并可通过网络来获取时间、天气等显示在屏幕上，给使用者提供出行建议等，软件采用LVGL开 pomin 网友正在看 仿真常用语法讲解1 TransferJet适配器 系统建模与分析 11.6 效能分析 了解功率密度–减少开关损耗 指令系统的发展与改进 基于OV5640的以太网视频传输_程序设计（第二讲） PowerDissipation 主频和时钟配置实验-8路PLL和8路PFD时钟设置
