本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 直播回放: SimpleLink™无线平台最新软硬件解决方案 MPLAB® X IDE 入门（上） ADC与DAC MPLAB® X IDE 编译调试（上） 赛普拉斯 PSoC Creator教程 WEBENCH FPGA Power Architect功能导览 直播回放: Nexperia 理想二极管与负载开关，保障物联网的稳健高效运行 英特尔FPGA 2019工程师应用视频 热门下载 一种零NRE的可编程ASIC eASIC 基于m序列的音频水印隐藏算法 离子交换除盐水处理器的失效控制 苹果iPod Touch和iPhone拆机对比评测 射频基础知识 生产方案及MT8820A STK086G.pdf 基于FPGA的多功能频率计的设计 208PBGA Schematic Capture with Cadence PSpice .pdf 热门帖子 四核CPU调研 打算做一个手持设备，安卓4.2以上，低功耗，要有工业级的片子;现在在IMX6Q和S5E4412中间进行选择，感觉IMX6Q功耗有点大，S5E4412的温度范围不够，但目前还没有找到功耗的手册，不知道还有没有更好的片子，可以帮忙推荐下？四核CPU调研4412吧，IMX据说开发起来比较麻烦，另外三星的NOTE2S3魅族的MX2都是4412的处理器，可以大概评估其功耗。另外的话可以看看TI的AM335X。ti的AM335X能跑起来安卓4.2吗？zqjqq88发表于2015-1 pangjian118114 【LPC54100】+ LED走起 今天点了个灯，看了原理图知道这个板子引出3个IO口开控制套件上的3色贴片的led。如下图：从原理可以看出这个3色led是共阳的，也就是说，我把相应的IO置低就可以控制某个led亮或者组合成其他颜色。我现在就用就用Keil5来点亮板子上的LED，keil5相比其他的版本变了不少，关于keil的这方面我就不多说了。现在直入主题，要点亮板子上的led。我这里修改了keil5的自带的例程，keil5自带的LED 强仔00001 求一块Arrow SoCKit，用一块全新Zedboard或两块DE1-SoC置换 可以当面交易，也可以用淘宝链接顺丰邮寄。求一块ArrowSoCKit，用一块全新Zedboard或两块DE1-SoC置换两块全新DE1-SoC，这个值得，哈哈楼主你这个换了没有啊 wangchunee 【晒样片】+样片申请流程 TI之前更新了申请权限，QQ邮箱之类已不再支持免费申请样片，于是用公司邮箱申请了企业邮箱重新注册。此次活动申请了：用于低功耗可穿戴应用的符合Qi(WPC)标准的无线充电器（TIDA-00318）的AC/DC转换器：BQ51003和电池充电器：BQ25101H用于系统唤醒和中断的基于电容的人体接近检测参考设计（TIDA-00220）的温度传感器：TMP112和电容数字转换器：FDC1004此次的TI申请样品速度极快，当天下午申请提交订单 方财华 arm开发板通过usb口接键盘，一段时间后报错 报错信息：ti81xx_interrupt1119:CAUTION:musb0:BabbleInterruptOccuredti81xx_interrupt1119:CAUTION:musb0:BabbleInterruptOccuredti81xx_interrupt1119:CAUTION:musb0:BabbleInterruptOccuredti81xx_interrupt1119:CAUTION:mus om181225 庆科Open1081免费试用名单！ Wi-Fi智能战队征集令，庆科Open1081免费试用活动第二阶段：开发板发送&套件评测以下为本次试用活动的入围名单，请获得试用资格的朋友注意：1、请更新论坛个人信息，方便邮寄；2、跟帖提交周计划（周计划模板：）完成上述步骤，我们将安排发送个板子，如在10月31日前仍未完成上述步骤，则视为自动放弃试用权力。为了让大家充分利用试用板子，请注意：1、如在2周内，未产生任何内容，则视为自动放弃，将板子传递给下一试用者（快递费需邮寄者负担）；2、如在活动期内， soso 网友正在看 人工智能中的哲学 缸中之脑 10.1 了解和比较高速模数（ADC）和数模转换器（DAC）转换器架构 3.5 I²C通讯简介 Geomeric Mali 游戏演示 LavVIEW程序结构设计 3 使用蒙特卡罗 SPICE 工具进行误差统计分析 Image Compression（四） UCD3138模拟前端（AFE）模块：触发EADC
