本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： Supercritical drying for realization of suspended structures test microst继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 Miz702 zynq视频进阶教程（米联客） 手把手教Hercules Launchpad（2） 基于脑电波的出行辅助系统体验 鲁棒控制理论 SimpleSwitcher和LDO在应用中的比较 德州仪器全系列直流降压产品详解 研讨会：Tek 从测试测量角度来看当今电源产品的设计 模拟整合降低智能电网成本 热门下载 基于智能小区安防系统的人脸识别.pdf 基于WinCE_5.0的电脑绣花机花样管理系统的研究 直流开关电源的软开关技术 转向／刮水／后雾灯控制用组合继电器的设计 md5加密解密算法；里面自带pb例程；希望对大家有用 80C196单片机控制闭环逆变系统的研究 航空图像压缩系统的DSP设计及实现 校园信息发布系统 SIM800 TCPIP应用文档 介绍AVR单片机多定时器中寄存器和及简单使用 热门帖子 申请MSP430样片就会获得6种MSP430开发板大优惠! 还等什么? 快来申请!!! 就到12月24日-申请MSP430样片就会获得6种MSP430开发板大优惠!还等什么?快来申请!!!http://www.deyisupport.com/question_answer/f/55/t/16736.aspx申请MSP430样片就会获得6种MSP430开发板大优惠!还等什么?快来申请!!! Sur 愿付报酬求程序 各位大神、各位好心人;走过路过都来看看，帮帮忙。本人现在急需一个由51单片机控制运算的3x3矩阵相乘的运算和将结果以矩阵形式显示在PG12864F液晶显示屏上的程序，（注：要计算矩阵的公式为a=b*v*n其中b为一个3x3矩阵，v为一个3x3矩阵，v为b的转置矩阵，要将a的结果以矩阵方式显示在12864上，变量要精确到小数点后7位）。本人昨晚熬了半夜也没能写出来，反倒弄得自己吃不下，睡不着，所以特来求个各位帮帮忙帮我写一个这 475099103 【新版CH554评测】二、触摸按键程序分析 按照计划第二篇应是触摸按键例程分析这个例程应在程序包路径下的：\EXAM\TouchKey\首先手册上是这么介绍的： 17.3Touch-Key功能 电容检测步骤： (1)、设置TKEY_CTRL寄存器中的bTKC_2MS和bTKC_CHAN2～bTKC_CHAN0，选择周期和输入通道。被 选择的输入通道，其所在GPIO引脚必须设置为高阻输入模式、或者开漏输出模式并且处于输 出1的状态（相当于高阻输入），Pn_DIR_PU=0。 (2)、清 ddllxxrr MSP430FR5738的Comparator_D的输出能不能在芯片内部直接接到某个Timer的捕获端？ 根据说明书上看，Comparator_D的输出端，在内部可接到CCI1B上，但并没有说怎么接，接到哪个Timer上的，寄存器也没有相关设置，这个功能怎么使用？MSP430FR5738的Comparator_D的输出能不能在芯片内部直接接到某个Timer的捕获端？没有用过所以不清楚 xujuncz 谁用过TLC5510？？ 谁用过TLC5510，它的封装是什么？在PCB库里有么？还是要自己建的，谁有好的资料或是它的封装，麻烦发个给我。3Qnbmeixiang21@163.com谁用过TLC5510？？呵呵，这样的问题应该自己解决啊。找datasheet，按上面的画啊回复：谁用过TLC5510？？后缀PW的是TSSOP封装的，后缀NS的是SOP封装的。回复：谁用过TLC5510？？3Q了，看着datasheet已经画好了。是NS的。SOP封装的。回复：谁用过TLC5510？？ nbmeixiang21 有没有什么类似单片机的专用主控？ 做项目的时候经常遇到逻辑处理以及通信的场景，我自己基本上只能想到使用单片机来完成，虽然现在单片机的价格并不是很高，但是还是会觉得用单片机来实现简单的功能会比较浪费，有没有什么专用的芯片来实现这些场景下的应用，比如简单的一个串口解析需求或者其他通信的解析等有没有什么类似单片机的专用主控？就是单片机没有别的，但你要的功能要是简单的话，，你可以用1元多的便宜货。。通用的功能就用通用的譬如这个：https://bbs.eeworld.com.cn/thread-1267965-1- scake 网友正在看 DS18B20数字温度传感器（五） 路由协议（四） 传感器联网机制 (IPSO)-II 拉普拉斯变换及其基本性质 Atmel SmartConnect 平台 - 全新物联网 Wi-Fi 解决方案（一） REPLACEMENT LUMINAIRES - 410.44, Ex. 1 时间前向处理方法 空调电路模块分析
