本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： Optical thin film thickness measurement继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 SimpleLink WiFi CC32xx电源管理框架介绍 东芝在线展会 大众自动驾驶婴儿原型车 LabVIEW 快速编程之谜 直播回放: onsemi 安森美领先的成像技术助您推进视觉产品创新 离子空间推进器 使用mTouch™ Framework自由开发触摸产品（一） 嵌入式实时操作系统μCOS原理与实践（卢有亮） 热门下载 电源入门小知识 微机原理与接口技术课程设计题目详细要求 一种模拟电路故障诊断方法 物联网汇总 Telit-GSM-GPRS-CDMA-WCDMA-Modu 华为硬件工程师手册 MFRC522中文手册 实用电子元器件与电路基础 (施瓦茨) 10个常见的镜头术语 ANTENNA NEAR FIELD 热门帖子 谁手上有不用的STM32F4开发板啊 求 如题，STM32F4系列的，401，407，429都可以求！F429优先。另外问一下谁用过STM32F4xxCx的QFN小封装？貌似很稀少的样子，代理手上都没货……类似这样的……QQ457788六七七本站强荐:185娱乐→城.足球→真_人.彩票齐全→手机可投→注任何游戏.首次开户送10元.首存送58元.信誉绝对保证185.cc谁手上有不用的STM32F4开发板啊求我有429discover之前到我手的时候屏线坏了，我通过飞线已经链接好，可以正常显示，但是因 southwolf1813 这个电路图怎样分析 这电路图怎样分析这个电路图怎样分析一个线性可调稳压器的内部结构原理图，，，找找1117-ADJ之类的芯片的资料qwqwqw2088发表于2014-11-2417:55一个线性可调稳压器的内部结构原理图，，，找找1117-ADJ之类的芯片的资料 我是在LM1117上找到的可是我不知道怎样分析它找一些LDO线性稳压器的资料，先看看基本的原理，再去分析这个图qwqwqw2088发表于2014-11-2418:46找一些LDO线性稳压器的资料，先看 清风飘过 红外遥控程序读码不准，请各位师兄妹分析一下问题在那里。 红外遥控程序读码不准，请各位师兄妹分析一下问题在那里。#includeiom8v.h#includemacros.h#definefosc8000000//晶振8MHZ#definebaud9600//波特率定义#defineucharunsignedchar#defineuintunsignedintucharbitcnt;uintdata0,data1,temp;ui pyq208 出售-ATMEL STK600 开发套件-全新未开封 600（出售中。。。） 出售-ATMELSTK600开发套件-全新未开封600（出售中。。。），不包邮，有谁收了吧出售-ATMELSTK600开发套件-全新未开封600（出售中。。。）我只能呵呵了，帮顶本站强荐:185娱乐┃城.足球┃真_人.彩票齐全┃手机可投┃注任何游戏.首次开户送10元.首存送58元.信誉绝对保证185.cc我也呵呵啦本站强荐:185娱乐Щ城.足球Щ真_人.彩票齐全Щ手机可投Щ注任何游戏.首次开户送10元.首存送58元.信誉绝对保证185.cc kejoy 嵌入式系统软件设计中的常用算法 本帖最后由paulhyde于2014-9-1503:14编辑好的算法可以让你很快的完成程序的编写，起到事半功倍的效果。祝大家参赛顺利。。。嵌入式系统软件设计中的常用算法本帖最后由paulhyde于2014-9-1503:14编辑怎么才40页回复楼主W1Z1Q的帖子本帖最后由paulhyde于2014-9-1503:14编辑lznizhebukexuea回复楼主W1Z1Q的帖子恩恩好东西 W1Z1Q TM4C里的UARTPrintf();无法使用 系统提示但是头文件里明明有这个函数的声明。TM4C里的UARTPrintf();无法使用楼主你好，我准备电赛一结束就学习TM4C123X，但是现在什么资料也没有，连编译软件是什么都不知道，网上说用CCS，有的说用KEILMDK，我现在有块TI给的LaughPad,请问楼主当初是怎么下手的呀，求解答，求拯救，谢谢啦！我也是相同的问题，不知道楼主的问题解决没？？需要#includestdio.h并添加函数intfputc(intch,FILE*f){UART 最美初见 网友正在看 第5.3讲 PDS软件的使用（第三讲） 数据处理举例 ADC基本原理-M3 Kernel Quiz 氮化鎵磊晶及高電子遷移率電晶體3 项目实战 讲座视频 - GPIO 编程 第十章 结构体与共用体05
