本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 基于SimpleLink的超低功耗无线MCU平台CC1310DK 「嵌入式人工智能」- 中文聊天机器人开发 跟随格兰特 • 今原，探秘机器人与人类如何共处 基于脑电波的出行辅助系统体验 设计指南-如何使用一个集成降压稳压器 TAS6424-Q1 的 DC 与 AC 负载诊断功能 ADI在线研讨会：PCB（印制电路板）布局布线指南 新一代计算机会自己编程 热门下载 基于智能小区安防系统的人脸识别.pdf 基于WinCE_5.0的电脑绣花机花样管理系统的研究 直流开关电源的软开关技术 转向／刮水／后雾灯控制用组合继电器的设计 md5加密解密算法；里面自带pb例程；希望对大家有用 80C196单片机控制闭环逆变系统的研究 航空图像压缩系统的DSP设计及实现 校园信息发布系统 SIM800 TCPIP应用文档 介绍AVR单片机多定时器中寄存器和及简单使用 热门帖子 c语言项目实例 最近听取大家的建议，对于编程语言的学习不能仅仅停靠到语法学习上，决定动手写代码了，大家有什么很锻炼写代码能力的项目实例吗？c语言项目实例向1万行代码的项目瞄准。窃以为，代码量决定学习效果。。。。。有什么相关的资源么？能不能麻烦您推荐或者分享一下？感谢大佬看看linux下的小工具的源码，或者看看linux内核的东西，加强理解。搞单片机编程呀，妥妥的C语言能力学习与提升怎么去寻找这些资源啊？大家有什么渠道吗？我现在不知道怎么去找这些资源我也想知道有什么渠道 851779592 内存技术设备，MTD（Memory Technology Device） 内存技术设备，MTD（MemoryTechnologyDevice）MTD，是Linux的存储设备中的一个子系统。其设计此系统的目的是，对于内存类的设备，提供一个抽象层，一个接口，使得对于硬件驱动设计者来说，可以尽量少的去关心存储格式，比如FTL，FFS2等，而只需要去提供最简单的底层硬件设备的读/写/擦除函数就可以了。而数据对于上层使用者来说是如何表示的，硬件驱动设计者可以不关心，而MTD存储设备子系统都帮你做好了。对于MTD字系统的好处，简单解释就是，他帮助你实现了，很多 13691982107 2015年全国大学生电子设计竞赛 仪器和主要元器件清单 2015年全国大学生电子设计竞赛仪器和主要元器件清单【本科组】1.仪器清单60MHz双通道数字示波器100MHz双通道数字示波器500MHz双通道数字示波器 低频信号发生器（1Hz~1MHz） 高频信号发生器（1MHz~120MHz）300MHz信号源双通道函数信号发生器（100MHz，DDS）函数发生器（10MHz，DDS） 低频毫伏 cxy93 滤波电路 如何用LM358搭建一个合理的滤波电路滤波电路楼主的问题太过粗陋，无法回答。滤波器有很多种，需要根据应用的需要来合理设计，建议去看看教材，电子技术基础模拟部分的相关章节。用运放搭滤波，你是要高通？低通？还是带通滤波？同楼上所言，你这问题太就不是个问题。楼主这个问题问得是有点不靠谱，不过也反映了目前一些实际情况，很多大学电子类专业的模拟电路课程基本上都不会很详细地讲解模拟滤波器，原因是课时不够，不可能在模拟电路课程里面详细讲解模拟滤波器。在信号与系统等课程中通常只讲数字滤波，也不讲模拟滤 lwxjy 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