本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： Electrical characterization继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 Microchip模拟和接口产品树形导览（下） 计算机视觉(北京邮电大学 鲁鹏) 3D TOF机器人：障碍物检测，防撞和导航 隔离式CAN收发器的关键考虑因素 星球大战的超萌机器人出世啦：BB-8！ 【CC1120评估套件指南】CC1120开发板范围测试 嵌入式处理器选型 检测肌肉电信号实现手势控制（IoTT大篷车） 热门下载 一种零NRE的可编程ASIC eASIC 基于m序列的音频水印隐藏算法 离子交换除盐水处理器的失效控制 苹果iPod Touch和iPhone拆机对比评测 射频基础知识 生产方案及MT8820A STK086G.pdf 基于FPGA的多功能频率计的设计 208PBGA Schematic Capture with Cadence PSpice .pdf 热门帖子 想用msp430做一个小东西，请问gps模块怎么用？ 如题，怎样把GPS模块里的经纬度信息导出来？想用msp430做一个小东西，请问gps模块怎么用？建议先找一个GPS模块的手册看看GPS使用NMEA协议通过串口输出定位及时间、卫星信号等参数，去下载一份NMEA协议文本好好阅读、理解吧。gps一般的其实就是，串口读数据，然后根据NMEA协议解析串口读的数据，就OK了先找个模块，带资料的，一般串口输出的就可以，看看具体的协议，就明白了。串口吧路过，瞧瞧 今夕灬何夕 AD5628驱动程序 有用过AD5628的吗？voidTAD5628(unsignedintdata){U8temp;SCLK_AD56x_H;CS_AD56x_H;SCLK_AD56x_L;CS_AD56x_L;for(temp=0;temp32;temp++){SCLK_AD56x_H;if(data&0x80000000)DIN_AD56x_H;e 余音袅袅 【跟TI学电源】系列------ TI 功率电池管理解决方案 TI功率电池管理解决方案【跟TI学电源】系列------TI功率电池管理解决方案好东西，多谢分享谢谢LZ的分享！ding感谢分享 qwqwqw2088 STM32串口通讯调试问题。！感谢各位大大 小弟刚开始用STM32F103VET6。现在要实现从AD采集模拟量，然后希望通过串口在visualscope上显示实时的波形！请问：1，串口通讯用什么样的协议？USB转串口是用的USB转UASRT转换器么？2，AD采集的模拟量是通过DMA直接通过串口与电脑通讯还是怎样？STM32串口通讯调试问题。！感谢各位大大1.串口只定义了硬件特性，软件方面的协议必须自己定义，为了保证数据的安全性，尽量定义一个完整是数据帧，有帧头，帧尾，数据长度，数据，校验等2.AD采样可以使用DMA与串 defencexuwei 咨询基于LM393的报警电路 +B1、+B2分别连接同一个电阻的两端，当该电阻上的电流过载时，ALARM灯就会报警。在平常的时候，ALARM灯时灭的。请问：1.电阻R20R17有什么用？2.两个10UF电容有什么用？咨询基于LM393的报警电路差放？滤波？帮顶！R20C10构成一阶低通滤波，防止极窄的干扰脉冲引起误动作。R23C11同R20C10。R17和C5构成仅在很短时间内起作用的正反馈，同样是为了防止误动作。感觉像电压比较器这个电路确定能正常工作？guiwan发表于20 yushengjiexy 【晒样片】+THS4541高速差动 I/O 放大器等样片申请 打开电脑，发现新的活动--免费申请TI样片，新春好礼相赠！链接http://www.eeworld.com.cn/huodong/201501sample/。必须支持，申请了下面图片选中的一些器件：之前调试锁相环的时候就看知道TI的THS4031(现行)100MHz低噪声电压反馈放大器，这次弄个更好点的HS4541(现行)高速差动I/O放大器玩玩，废话少说，点击上图选中的链接，进入ti网站，选着需要的样片，点击样片申请，如下图： neufeifatonju 网友正在看 汽车燃油泵 / 水泵控制解决方案 福禄克-实验室申请 FPGA入门课程3-分频器 视频读写总结 Neural Network Hypothesis 深度学习 Micropython自编译固件（上） 生产者消费者问题
