本课程为精品课，您可以登录eeworld继续观看： SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods继续观看 课时1：Teaser 课时2：Successful MEMS products：accelerometer 课时3：Successful MEMS products：microphone 课时4：Successful MEMS products：BAW 课时5：Case study：thermomechanical microactuator 课时6：Cleanroom basics：introducing the issue of contamination 课时7：Cleanroom basics：cleanroom strategy 课时8：Basic principles of CVD and CVD reactors 课时9：CVD techniques at different operating pressure plasmaenhanced CVD and me 课时10：Atomic layer CVD ALD and thermal oxidation of silicon 课时11：Theoretical concepts of gas flow in CVD reactors 课时12：CVD thin film growth model 课时13：Specific CVD processes for siliconbased materials and diamond 课时14：Thermal oxidation processes of silicon and ALD deposition of specific oxid 课时15：Thermal evaporation：introduction and vapor creation 课时16：Thermal evaporation：film formation and examples 课时17：Thermal evaporation in CMi 课时18：Sputtering：introduction and plasma formation 课时19：Sputtering：spatial zones and Paschen law 课时20：Sputtering：DC RF magnetron 课时21：Sputtering：ion target interactions 课时22：Sputtering：film growth and control parameters 课时23：Sputtering：examples 课时24：Sputtering in CMi 课时25：SUPPLEMENTARY Other PVD methods 课时26：Film growth：atoms arrival and adhesion 课时27：Film growth：stress in thin films 课时28：SUPPLEMENTARY Film growth：growth modes and crystal structure 课时29：Introduction to lithography 课时30：Resist properties and exposure methods 课时31：SUPPLEMENTARY Photoresist sensitivity and modulation transfer function 课时32：UV lithography：direct writing and mask writing 课时33：UV lithography in CMi：mask fabrication 课时34：UV lithography：mask based lithography 课时35：UV lithography in CMi：mask based lithography 课时36：Electron beam lithography：tool overview 课时37：Electron beam lithography：electron optics and beam deflection 课时38：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：tool overview II 课时39：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：design preparation and fracture 课时40：Electron beam lithography：electronsample interactions 课时41：Electron beam lithography：resists 课时42：SUPPLEMENTARY Electron beam lithography：proximity effect 课时43：Alternative patterning methods：scanning probe lithography 课时44：SUPPLEMENTARY Alternative patterning methods：replication methods 课时45：Dry etching in a gas plasma：etching anisotropy 课时46：Deep dry etching of silicon dry etching without a plasma 课时47：Theoretical concepts of plasma generation 课时48：Types of dry etching equipment and plasma sources 课时49：Ion beam etching 课时50：Examples of etching processes for Sibased materials 课时51：Examples of etching processes for organic films and metals 课时52：Anisotropic and isotropic wet etching of Si and applications 课时53：HF bath for SiO2 and glass wet etching 课时54：Isotropic wet etching of silicon in the HNA bath 课时55：Anisotropic wet etching of silicon in alkaline baths 课时56：Etch stop techniques for thin membrane microfabrication and bulk micromach 课时57：Supercritical drying for realization of suspended structures test microst 课时58：Optical microscopy：inspection and dimension measurement 课时59：Optical thin film thickness measurement 课时60：Optical surface profile measurement 课时61：Mechanical surface profile measurement 课时62：Scanning electron microscopy 课时63：Focused ion beam：local cross sectional inspection and measurement 课时64：Electrical characterization 课程介绍共计64课时，11小时13分5秒 微纳加工（半导体制造工艺）瑞士联邦理工学院 本课程将在超净环境中向大家展示最有效的集成电路制造工艺，以教授半导体制造的基本原理和流程。 上传者：桂花蒸 猜你喜欢 视觉功能成就汽车技术 Power Tips — 电源管理设计小贴士系列 电源设计小贴士53：采用 P-Sprice 设计电源控制环路 最新低功耗5GHz 双频带 Wi-Fi MCU，全面满足高安全标准 物联网概论 嵌入式Linux性能监控和调优 WEBENCH Visualizer设计工具 电机学 华北电力大学 李永刚 热门下载 [资料]-JIS B4313-2002 High-speed steel two-flute twist drills-Technical specifications.pdf [资料]-JIS B3512-2007 可编程序控制器.现场网络标准的试验和检定(1级)(修改件1).pdf [资料]-JIS B6203-1998 升降台式卧铣床 准确度的测试1.pdf [资料]-JIS F8521-2012.pdf [资料]-JIS F8522-2012.pdf [资料]-JIS D4311-1995 汽车用离合器衬片.pdf [-]-jis a1204-2009 土壤粒度分布的试验方法.pdf [资料]-JIS S2006-1994 Vacuum bottles.pdf [资料]-JIS D3636-2003 道路车辆.柴油机燃料喷射泵试验.枢轴型校准喷嘴.pdf 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我现在用伟福来学习单片机，但在网上很难找到伟福的教程，不知道哪位大虾有伟福的教程，发给我看看，感激不尽~~~~哪位大虾有伟福教程？？？http://www.wave-cn.com到他的官网看看啦,一般都有的^_^Re:哪位大虾有伟福教程？？？有啊，我这有说明书，要不要扫描了给你Re:哪位大虾有伟福教程？？？ hartleyv 本人设计一个信号发生器遇到了困难，各位大侠帮帮小弟啊！急求！ 本人现在设计一个基于80C51单片机的信号发生器，要求能够输出方波，正弦波及幅值可调，范围在（—10至+10）。我已经知道在单片机外接一个DA就可以输出波形，但如何使幅值的范围在（—10至+10）我就不知道了，希望大家帮帮偶！！！！！！！！本人设计一个信号发生器遇到了困难，各位大侠帮帮小弟啊！急求！但如何使幅值的范围在（—10至+10）我就不知道了，希望大家帮帮偶！！！！！！！！接放大器然后,单片机控制接入的电阻不同,然后放大不同倍数达到调幅的目的－10V到10V吗？使用ADS780 IceA 问一个弱弱的问题 用MAX232来做RS232接口，是不是必须用51单片机的RX,TX脚，用其他的可不可以？问一个弱弱的问题不行，用别的也跟不上，有专用的为什么用别的？因为我的一个触摸屏也要用这两个脚与51串口通信，用MAX232来做RS232接口，是不是必须用51单片机的RX,TX脚，用其他的可不可以？可以,你可以用定时器模拟一个232口,这时候它就按串口的方式通信了....你可以用定时器模拟一个232口,不过，很麻烦的加上个550那一类的东西吧我觉得发还可以，收就比较困难了。如果允许， yanxinghua 网友正在看 N个框架知多少-LiteOS Framework Verilog和fpga 设备树实现RGB灯驱动 Randomized Selection Analysis PSpice 16.6新功能 物联网创新应用(智能牙刷) 100G / 400G 技术发展回顾 小波与滤波器组
