本课程为精品课,您可以登录eeworld继续观看: 刻蚀技术--概述继续观看 课时1:绪论:微电子工艺是讲什么的? 课时2:微电子工艺的发展历程如何? 课时3:微电子工艺有什么特点? 课时4:单晶硅特性(上) 课时5:单晶硅特性(中) 课时6:单晶硅特性(下) 课时7:多晶硅制备;1.2单晶生长-CZ法 课时8:单晶生长-原理 课时9:单晶生长-掺杂 课时10:单晶生长-MCZ与FZ法 课时11:硅片的加工 课时12:硅片介绍 课时13:外延概述 课时14:气相外延-1硅工艺 课时15:气相外延-2原理 课时16:气相外延-3速率 课时17:气相外延-4掺杂 课时18:气相外延-5设备与技术 课时19:分子束外延 课时20:其它外延方法 课时21:外延层缺陷及检测 课时22:电阻率测量 课时23:概述-1性质与用途 课时24:概述-2杂质与掩蔽 课时25:硅热氧化-1工艺 课时26:硅的热氧化-2机理 课时27:硅的热氧化-3DG模型 课时28:硅的热氧化-4速率 课时29:硅热氧化-5影响因素 课时30:初始氧化 课时31:杂质再分布-1分凝 课时32:杂质再分布-2硅表面浓度 课时33:氧化层检测-1厚度 课时34:氧化层检测-2成膜质量 课时35:氧化层厚度估测实验 课时36:其它氧化方法 课时37:扩散机构 课时38:扩散方程-1菲克定律 课时39:扩散方程-2扩散系数 课时40:扩散掺杂-1恒定源 课时41:扩散掺杂-2限定源 课时42:影响杂质分布因素-1点缺陷 课时43:影响杂质分布因素-2氧化增强 课时44:影响杂质分布因素-3发射区推进 课时45:扩散条件与方法-1方法选择 课时46:扩散条件与方法-2扩散工艺 课时47:质检与测量-1结深 课时48:质检与测量-2表面浓度 课时49:pn结结深测量实验 课时50:扩散工艺的发展 课时51:离子注入概述 课时52:离子注入原理-1 课时53:离子注入原理-2 课时54:离子注入原理-3 课时55:注入离子分布-1,2分布 课时56:注入离子分布-3沟道效应 课时57:注入离子分布-4其它影响 课时58:注入损伤-1 课时59:注入损伤-2 课时60:退火-1热退火 课时61:退火-2快速退火 课时62:设备与工艺 课时63:应用 课时64:掺杂新技术 课时65:CVD概述 课时66:CVD原理-1过程 课时67:CVD原理-2速率 课时68:CVD原理-3质量 课时69:CVD工艺方法-1AP-2LP 课时70:CVD工艺方法-3等离子体(上) 课时71:CVD工艺方法-3等离子体(下) 课时72:CVD工艺方法-4PE-5HDP(新) 课时73:二氧化硅薄膜-1性质 课时74:二氧化硅薄膜-2制备 课时75:氮化硅薄膜 课时76:多晶硅薄膜 课时77:CVD金属及金属化合物薄膜 课时78:PVD-1概述 课时79:PVD-1真空简介 课时80:PVD-2真空的获得 课时81:蒸镀-1原理 课时82:蒸镀-2设备、工艺 课时83:蒸镀-3质量 课时84:溅射-1原理 课时85:溅射-2方法 课时86:溅射-3质量 课时87:PVD金属及化合物薄膜 课时88:光刻02--光刻技术 课时89:光刻掩膜板制造技术 课时90:光刻--光刻胶 课时91:光刻--紫外曝光技术 课时92:光刻--光刻增强技术 课时93:其它曝光技术 课时94:其它曝光技术(2) 课时95:光刻新技术展望 课时96:光刻引言 课时97:光刻工艺 课时98:光刻分辨率 课时99:光刻分辨率--2 课时100:刻蚀技术--概述 课时101:湿法刻蚀技术 课时102:刻蚀技术--干法刻蚀技术 课时103:刻蚀技术--SiO2薄膜的干法刻蚀技术 课时104:刻蚀技术--多晶硅等其它薄膜的干法刻蚀技术 课时105:工艺集成--金属化与多层互连 课时106:工艺集成--金属化之尖楔现象 课时107:工艺集成--集成电路中的隔离技术 课时108:CMOS集成电路的工艺集成 课时109:双极型集成电路的工艺集成 课时110:结束语我的中国芯 课程介绍共计110课时,11小时37分37秒 微电子工艺(哈尔滨工业大学) 本课程是“电子信息科学与技术”、“微电子科学与工程”等专业的核心课程。全面系统地介绍了微电子工艺基础知识,重点阐述了芯片制造单项工艺,包括:外延、热氧化、扩散、离子注入、化学汽相淀积、物理汽相淀积、光刻、刻蚀。还介绍了金属互连、典型工艺集成、关键工艺设备,以及微电子工艺未来发展趋势。通过本课程的学习能使学生对微电子工艺技术有全面了解,为后续专业课程学习打下坚实基础。也利于学生专业素养的提高。 本课程特色在于对关键工艺所依托的理化基础知识进行了阐述,并通过实验视频对关键工艺参数测试技术也进行了介绍。 使学习者掌握微电子关键工艺的基本原理、方法、用途;熟悉主要工艺设备及检测仪器;了解典型集成电路芯片的制造流程。 上传者:老白菜 猜你喜欢 设计指南-低功耗压力传感器 TI 工业应用研讨会 直播回放: Microchip安全系列24 - 揭秘工业系统的ISA/IEC 62443安全标准 采用硬核浮点的设计输入 3级降压转换器:它是如何工作的? 研讨会:将至已至,物联网时代的典型应用:Avnet 5G 加速物联网应用和数字化转型 直播回放: 瑞萨新一代视觉 AI MPU 处理器 RZ/V2H: 高算力、低功耗、实时控制 模拟世界的最重要构成 - 信号链与电源:栅极驱动器 热门下载 浅谈检测/校准用软件的可靠性验证 基于C8051F激光器驱动电源仿真与设计 8098单片机与免提语音芯片MC34118的接口 AVR单片机+CPLD体系在测频电路中的应用 Altium Designer原理图库 接口器件.SchLib 模块原理图 MK_可编程设计范例大全.pdf 各种排序算法的比较 Sprint-Layout V5.0免安装中文版 JIS K0128-2000 Testing methods for pesticides in industrial water and waste water.pdf 热门帖子 STC89C52 RC XDATA问题 使用KeilCIDE开发一个程序,目标器件是STC89C52RC,这个器件的内存是512字节。KeilC编译的结果是ProgramSize:data=9.0xdata=329code=4446结果是,杯具了,ISP下载到芯片里,下载软件没有任何报错,但是单片机执行错误。去掉一些功能,重新编译,得到结果ProgramSize:data=9.0xdata=305code=4419ISP下载,没有问题,程序执行一切正常。难以理解,为什 ebuddy 【行空板 Python编程学习主控板】翻转蕃茄时钟 试用计划里,本来有一个LCD时钟的,但经过了学习后,发现,行空板的unihiker库里,就支持模拟时钟的显示,只要读取一下系统时间,再配置一下显示就可以了。行空板连接网络后,系统时间自动与北京时间进行校对。代码如下:fromunihikerimportGUI#导入包importdatetimegui=GUI()#实例化GUI类clock=gui.draw_clock(x=120,y=160,r=80,h=10,m=8,s=0,color="#f jinyi7016 内核驱动都不支持高版本的emmc A:内核驱动都不支持高版本的emmc,有没有改好的android4.4.2的内核镜像发给我测试一下B:我们4.4.2的没更新了,你自己编译修改为EMMC驱动的boot.img就好;或者用android5.1内核驱动都不支持高版本的emmc 明远智睿Lan 求一块Sitara? AM335x ARM? Cortex?-A8 入门套件 不求了。。。玩不转啊!!!求一块Sitara?AM335xARM?Cortex?-A8入门套件顶!!!!本站强荐:185娱乐б城.足球б真_人.彩票齐全б手机可投б注任何游戏.首次开户送10元.首存送58元.信誉绝对保证185.cc我有一块,不知道你打算出多少收。本站强荐:185娱乐Α城.足球Α真_人.彩票齐全Α手机可投Α注任何游戏.首次开户送10元.首存送58元.信誉绝对保证185.ccLS什么价出?可以联系我186###2 dfhf2007 真正可以弯0.22毫米柔性屏幕手表 我们之前已经听过关于柔性屏幕的各种消息报道,对于“柔性”二字,我们一般都理解为柔软,可弯曲的意思,而现在由日本双叶(Futaba)公司推出的一款柔性屏幕手表概念。则很好地诠释了我们队这两个字的理解。这块手表的屏幕只有0.22毫米厚,非常柔软,做成手表后可直接带在人手上。手表屏幕大小为3.5英寸,分辨率256x64像素,屏幕亮度为100cd/m2,支持全彩色显示。而估计是为了降低功耗的缘故,厂商将这块手表设计为OLED材质。不过 wstt 电路板抄板软件 这里是我们的一个很常用也很实用的一个软件电路板抄板软件支持!Re:电路板抄板软件抄板?????是制图软件么?rain发表于2006-7-2920:11这里是我们的一个很常用也很实用的一个软件 非常感谢楼主,根本运行不了运行不了怎么搞 rain 网友正在看 LiteOS内核实战教程-内存管理(实战) 动手做一个蓝牙手柄-HID和SPP模块有啥区别(上) 二叉排序树、B+树、B-树、哈希表 初值定理&终值定理 机器人-人工智能基础篇(25):多重测量的解 RC串并联选频网 天天向上 基于GenericApp无线收发实验