本课程为精品课,您可以登录eeworld继续观看: 蒸镀-2设备、工艺继续观看 课时1:绪论:微电子工艺是讲什么的? 课时2:微电子工艺的发展历程如何? 课时3:微电子工艺有什么特点? 课时4:单晶硅特性(上) 课时5:单晶硅特性(中) 课时6:单晶硅特性(下) 课时7:多晶硅制备;1.2单晶生长-CZ法 课时8:单晶生长-原理 课时9:单晶生长-掺杂 课时10:单晶生长-MCZ与FZ法 课时11:硅片的加工 课时12:硅片介绍 课时13:外延概述 课时14:气相外延-1硅工艺 课时15:气相外延-2原理 课时16:气相外延-3速率 课时17:气相外延-4掺杂 课时18:气相外延-5设备与技术 课时19:分子束外延 课时20:其它外延方法 课时21:外延层缺陷及检测 课时22:电阻率测量 课时23:概述-1性质与用途 课时24:概述-2杂质与掩蔽 课时25:硅热氧化-1工艺 课时26:硅的热氧化-2机理 课时27:硅的热氧化-3DG模型 课时28:硅的热氧化-4速率 课时29:硅热氧化-5影响因素 课时30:初始氧化 课时31:杂质再分布-1分凝 课时32:杂质再分布-2硅表面浓度 课时33:氧化层检测-1厚度 课时34:氧化层检测-2成膜质量 课时35:氧化层厚度估测实验 课时36:其它氧化方法 课时37:扩散机构 课时38:扩散方程-1菲克定律 课时39:扩散方程-2扩散系数 课时40:扩散掺杂-1恒定源 课时41:扩散掺杂-2限定源 课时42:影响杂质分布因素-1点缺陷 课时43:影响杂质分布因素-2氧化增强 课时44:影响杂质分布因素-3发射区推进 课时45:扩散条件与方法-1方法选择 课时46:扩散条件与方法-2扩散工艺 课时47:质检与测量-1结深 课时48:质检与测量-2表面浓度 课时49:pn结结深测量实验 课时50:扩散工艺的发展 课时51:离子注入概述 课时52:离子注入原理-1 课时53:离子注入原理-2 课时54:离子注入原理-3 课时55:注入离子分布-1,2分布 课时56:注入离子分布-3沟道效应 课时57:注入离子分布-4其它影响 课时58:注入损伤-1 课时59:注入损伤-2 课时60:退火-1热退火 课时61:退火-2快速退火 课时62:设备与工艺 课时63:应用 课时64:掺杂新技术 课时65:CVD概述 课时66:CVD原理-1过程 课时67:CVD原理-2速率 课时68:CVD原理-3质量 课时69:CVD工艺方法-1AP-2LP 课时70:CVD工艺方法-3等离子体(上) 课时71:CVD工艺方法-3等离子体(下) 课时72:CVD工艺方法-4PE-5HDP(新) 课时73:二氧化硅薄膜-1性质 课时74:二氧化硅薄膜-2制备 课时75:氮化硅薄膜 课时76:多晶硅薄膜 课时77:CVD金属及金属化合物薄膜 课时78:PVD-1概述 课时79:PVD-1真空简介 课时80:PVD-2真空的获得 课时81:蒸镀-1原理 课时82:蒸镀-2设备、工艺 课时83:蒸镀-3质量 课时84:溅射-1原理 课时85:溅射-2方法 课时86:溅射-3质量 课时87:PVD金属及化合物薄膜 课时88:光刻02--光刻技术 课时89:光刻掩膜板制造技术 课时90:光刻--光刻胶 课时91:光刻--紫外曝光技术 课时92:光刻--光刻增强技术 课时93:其它曝光技术 课时94:其它曝光技术(2) 课时95:光刻新技术展望 课时96:光刻引言 课时97:光刻工艺 课时98:光刻分辨率 课时99:光刻分辨率--2 课时100:刻蚀技术--概述 课时101:湿法刻蚀技术 课时102:刻蚀技术--干法刻蚀技术 课时103:刻蚀技术--SiO2薄膜的干法刻蚀技术 课时104:刻蚀技术--多晶硅等其它薄膜的干法刻蚀技术 课时105:工艺集成--金属化与多层互连 课时106:工艺集成--金属化之尖楔现象 课时107:工艺集成--集成电路中的隔离技术 课时108:CMOS集成电路的工艺集成 课时109:双极型集成电路的工艺集成 课时110:结束语我的中国芯 课程介绍共计110课时,11小时37分37秒 微电子工艺(哈尔滨工业大学) 本课程是“电子信息科学与技术”、“微电子科学与工程”等专业的核心课程。全面系统地介绍了微电子工艺基础知识,重点阐述了芯片制造单项工艺,包括:外延、热氧化、扩散、离子注入、化学汽相淀积、物理汽相淀积、光刻、刻蚀。还介绍了金属互连、典型工艺集成、关键工艺设备,以及微电子工艺未来发展趋势。通过本课程的学习能使学生对微电子工艺技术有全面了解,为后续专业课程学习打下坚实基础。也利于学生专业素养的提高。 本课程特色在于对关键工艺所依托的理化基础知识进行了阐述,并通过实验视频对关键工艺参数测试技术也进行了介绍。 使学习者掌握微电子关键工艺的基本原理、方法、用途;熟悉主要工艺设备及检测仪器;了解典型集成电路芯片的制造流程。 上传者:老白菜 猜你喜欢 嵌入式系统 【虚拟仪器大赛】工厂机械臂 原子教你玩STM32 趣味电子技术史话:录音技术的发展历史 SIMPLE SWITCHER 纳米模块及稳压器概览 机器学习基础:案例研究(华盛顿大学) Maxim Integrated:30年回顾 Linux下vivado安装教程 热门下载 一种零NRE的可编程ASIC eASIC 基于m序列的音频水印隐藏算法 离子交换除盐水处理器的失效控制 苹果iPod Touch和iPhone拆机对比评测 射频基础知识 生产方案及MT8820A STK086G.pdf 基于FPGA的多功能频率计的设计 208PBGA Schematic Capture with Cadence PSpice .pdf 热门帖子 tiva uart 数据输出 刚接触tiva版不会用特此请教思路:用tivaADC采样数据再通过uart3输出。目的:得到ADC采样数据的txt文件用于其他软件分析。注:uartcharput只能输出到uart,查资料有说再用vs读取串口输出txt文件,ccs本身不能输出txt。下面是我的code能从示波器看到uart3口的输出波形,但我不知道输出的具体是什么请高手指点intmain(void) { //channel0 uint32_tui32ADC0Value; weiwei Debug时能看出当前运行了几步吗? 之前使用Keil电脑模拟时可以看到现在走了几步、花了多少时间想请问CCS上也有类似的功能吗?还是说一定得用定时器?Debug时能看出当前运行了几步吗? CCS当然有,你用的那个版本CCS3.3版本下在Profile-clock菜单下,有Enable,view,setup等选项,选中Enble后在右下角有一个钟表样子的标志。CCS5.0以上版本(4.0版本没有用过,应该差不多)在调试模式下Run-Clock菜单下,功能选项会多一些,你应该能看懂的,选中Enble后好像也是在右下角 huybn5776 科普啦!科普啦!无叶风扇的原理! 一直对“无叶风扇”的原理很好奇,这个图很好的科普了!科普啦!科普啦!无叶风扇的原理!无叶风扇这个,核心技术是什么,,可行么好像没有特别的核心技术,就是强力空气流动带动了周围的空气,加强了空气流量。好处就是,风叶不暴漏对更安全了。 yaoniming3k 我的大二,开始了 不知不觉,已经开学2周了,也就是半个月,原本在暑假定好的计划,一开学就变得不太现实。接待新生,上任部长,社团招新,还有选修课综合工程能力训练,完全把计划打乱,而又一直不在状态,计划落下一大堆,想想现在已经大二,大一的师兄,再也不能跟以前一样,什么也不管,想做就放心一起去尝试,该给自己一个更充分的安排。遂以拙手,敲以下文字,与大家共勉。现在是2014.09.18,在十月份前将滤波器的基本知识了解,知道如何选为自己设计的电路选电感。同时,利用周末,与课余时间,为协会的招新和 xcs101 【已解决】请教一个简单的问题,关于烧录 刚刚收到论坛买的STM32F429开发板,但是用STM32ST-LINKUtility烧录BIN文件提示如下错误同样用这个软件给NUCELOSTM32F091烧录同一个BIN文件就可以。所以应该不是驱动的问题?请问下是不是板子哪里有跳线帽没有插对?【已解决】请教一个简单的问题,关于烧录 IC爬虫发表于2015-1-2608:48先看看你的stlink的驱动安装好了吗? 同样的软件烧录NUCLEO-F091RC是可以的。应该不是驱动的问题上面两张图是 眼大5子 出售Nano130的M0套件 手上有两款Nano130板子,打算出售一套,没有使用过,便宜出货100块,不包邮。如果需要跟帖,这款网上资料丰富,如果有E金币兑换,如果要购买的话,我会发个淘宝链接。出售Nano130的M0套件还是交换吧,免费的板子卖来买去,新塘也不会送板了的。现在TI、ST都不送开发板,就是被这样搞坏的。还是交换吧,免费的板子卖来买去,新塘也不会送板了的。现在TI、ST都不送开发板,就是被这样搞坏的。嗯,交换的话,现在也没想到要什么板子玩。本站强荐:185娱乐亗城.足球亗真_人. wateras1 网友正在看 Part3: MSP430FR604x Ultrasonic MCUs 联发科技 Helio X20 Tri-Cluster 架构功耗性能演示 2011ARM Techcon系列之Cadence 时钟偏差 沃罗诺伊路线图法 总线和交叉开关 权电阻网络D_A转换器 摺積系統定理 - 4_摺積操作之下的穩定性系統定理